エアロゾルデポジション(AD)法の基礎と成膜特性、デバイス応用
★成膜原理やプロセスパラメータなどの基本からエネルギーデバイスへの応用開発など、最新情報を紹介
【講演主旨】 セラミック微粒子をガス中に分散混合したエアロゾルをノズルから高速で噴射し基材に衝突させることで基材上にセラミックス膜を形成できる微粒子衝突固化現象を利用した新製膜技術(エアロゾルデポジション法)は、室温で比較的簡単に厚膜の形成ができるなどの特徴を持ち、ナノレベルの結晶子サイズからなる緻密な構造物ができる。膜特性として、緻密質ゆえに高硬度、基材との密着性も高く、電気的絶縁性にも優れている。 この方法は、アルミナを始めとする酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、イットリア等の酸化物や炭化物珪素等の非酸化物材料の製膜も可能であり、さらに異種材料の複合化も可能である。また、常温で製膜することから樹脂や金属等の低融点材料にまで製膜することができる。今回は、その総論としてその製膜技術の特徴と従来の製膜体との比較や製膜性に及ぼす各種パラメータの関係、とこの製膜体の応用展開について述べる。
- 企業：株式会社AndTech
- 価格：1万円 ~ 10万円
