1～3 件を表示 ／ 全 3 件
真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下でのUV・加熱などに最適！
「PU-201-V型」は最高温度200℃対応の真空UV照射バッチ炉です。 小型バッチ炉タイプで、真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下でのはんだ付けプロセスに最適！
「PH-224-S型」は最高温度400℃対応の真空はんだ付けバッチ炉です。小型バッチ炉タイプで、はんだ付けプロセス少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 観察窓により、ワークの状態が視認できます。温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 空冷にて、最高温度400℃対応です。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
プロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。
真空はんだ付けバッチ炉 「PH-224-S型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる ○空冷にて、最高温度400℃対応 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
