真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下でのUV・加熱などに最適！
「PU-201-V型」は最高温度200℃対応の真空UV照射バッチ炉です。 小型バッチ炉タイプで、真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
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基本情報
【特徴】 ○温度制御範囲：室温～200℃ ○ワークサイズ：最大200×200mm ○昇温スピード：100℃/min ○圧力範囲：-100KPa（真空） ○UVランプ出力：メタルハライド120W/cm ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
価格情報
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納期
用途／実績例
真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発
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企業情報
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