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高いダメージ耐性を持つ高出力アプリケーション用偏光ビームスプリッター
高出力用途の、高いダメージ耐性を持つ偏光ビームスプリッターです。 優れた表面品質と高い消光比を特徴とします。 4つの外面すべてに反射防止コーティングが施されています。 ・優れたダメージ閾値 >15 J/cm2 10 ns pulses@1064 nm ・高い消光比 > 1：500 ・優れた表面精度 20-10 scratch & dig (MIL-PRF-13830B)
355nmまたは532nm用に設計された固定比キューブビームスプリッター
固定比キューブビームスプリッターは、内部面にある部分反射面で接合された2つの直角プリズムで構成されています。
レーザー用途に優れた偏光ビームスプリッター
レーザー用途に優れた性能を発揮する偏光ビームスプリッターです。 キューブ上のビームスプリッターの内面に偏光膜コーティングされており、90°の角度だけずれた反射で生じる偏光を利用します。 特定の波長に合わせて最適化して、レーザ用途に優れた性能を発揮させることができます。
広帯域用の400〜700 nmまたは700〜1100 nm領域用の非偏光キューブビームスプリッター
非偏光広帯域キューブビームスプリッターは、内部面にある部分反射面で接合された2つの直角プリズムで構成されています。 ビームスプリッタキューブの4面には広帯域反射防止コーティングが施されています。コーティングは、450〜700 nm、または750〜1100 nmの範囲で設計されています。 ・BK7製 ・低電力アプリケーション用のセメント ・典型的な損傷閾値：> 0.1 J / cm 2、10 Hz@1064 nm ・広帯域反射防止コーティング：R <1 ％@ 450-700 nm、またはR < 1 ％@ 750-1100 nm キューブは50：50のスプリット比を持ち、4つの異なるサイズで提供しています。 製品はM2Pマウントにマウントされた状態か、マウントなしの状態で提供されます。
532nm用に設計された非偏光キューブビームスプリッター
無偏光キューブビームスプリッターは、内部面にある部分反射面で接合された2つの直角プリズムで構成されています。 無偏光レーザービームスプリッターのすべての誘電体コーティングは、設計された波長での偏光に鈍感になるように最適化されています。 コーティングは、特定のレーザー波長領域にわたって、反射と透過の比率が同じになるようにS偏光成分とP偏光成分の両方を保持します。
