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高度な図形処理技術と最新の装置によるフォトマスク
エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。エレクトロニクス、光学部品、スケール、ディスプレイなどの分野において、長年に渡る経験豊富な精密フォトリソグラフィー技術、またエクア独自の図形処理技術により、お客様の多様なニーズにお応えします。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○対応データ：DXF，DWG，GBX，GDS II や画像データBMP，TIFなど ○パターン形状：直線、円、円弧の他SIN波、スパイラル、ランダムなパターン配置などに対応 ○用途：センサー、ディスプレイ、エンコーダー、半導体パッケージなどの精密フォトリソグラフィ ○図形補正：プロセスにマッチした柔軟な図形補正を行う 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
レーザーを光源とした最新の装置により描画されているフォトマスクです。
フォトマスクとは、電子回路、表示デバイス、光学部品、精密機器などのパターンをウェハ、ガラス基板、プリント基板、金属板などに露光する際に使用される原板のことです。 フォトマスクに描かれたパターンは多くの電気製品、半導体、テレビ、スマートフォン、ノイズフィルター、スケール、ネットワーク回線関連製品に使用されております。 エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○露光用の原板 ○レーザーを光源とした最新の装置により描画 ○多様なニーズに対応 ○回路基板や光学部品のパターンをCADを用いて設計 ○基材の種類： ガラス基板がソーダライムと合成石英の2種類、フィルムがPET 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
高品質なフォトマスクを短納期、低価格でご提供
高精度レーザー描画装置と高度に管理されたクリーン環境、長年に亘るノウハウを結集して構築したプロセスにより、高精度かつ高品質なフォトマスクをご提供します。 徹底的に合理化されたプロセスは製造コストの削減とリードタイムの短縮を実現。高い品質はもちろん、他社に負けない低価格、最短中一日納入の短納期対応の両立を可能としました。 また、更なる品質向上を目指して洗浄装置、検査装置など大幅な設備増強を行い、日々高度化するお客様のご要望を満たす製品作りに努めております。 安価な量産用コピーマスクからペリクル付きレチクルまで幅広く対応可能。お客様の用途とご要望に応じて最適なご提案をさせて頂きますので、詳細はお気軽にお問い合せ下さい。
高精細クロムマスクをはじめとする、大型フォトマスク。コーティング加工も可能
メッシュ株式会社は、最高レベルの画像品質と位置精度を必要とする、 大型フォトマスクをご提供します。 クロムマスク、高精細クロムマスクをはじめ、フィルムマスクや エマルジョンマスクをラインアップしています。 クロムマスクにはフッ素コーティング加工ができ、エマルジョンマスクは ハードコーティングをしたプロテクト加工品が提供可能です。 【製品規格(抜粋)】 ■クロムマスク ・材料：ソーダライム/合成石英 ・基板サイズ：～1200×1700mm ・描画サイズ：1060×1650mm ■高精細クロムマスク ・材料：ソーダライム/合成石英 ・基板サイズ：～1400×1500mm ・描画サイズ：1350x1450mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ガラス基材で湿度影響を低減し、高い寸法安定性と解像性を実現。CSP、FC-CSP、薄膜チップ部品等に！
『フォトマスク‐エマルジョンマスク‐』は、基材がガラスなので 湿度影響を受けにくいことから、寸法安定性が高く解像性に優れています。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品や、その他各種パッケージ、 タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高精度な意匠成形を実現！優れた耐久性と微細性で、半導体チップや基板実装、各種パッケージ成形に好適。
『フォトマスク‐クロムマスク‐』は、耐久性および微細性が高く 高精度な意匠形成に有効です。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、 ディスプレイ、タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 【仕様・規格（抜粋）】 ■最大マスクサイズ（mm）：800×800×12t ■ガラス材質：ソーダライム（SL）／石英（QZ） ■膜質：2層 低反射クロム膜／その他 ■膜厚（μm）：100～160／その他 ■環境温度による影響：0.8μm/℃/100mm（SL）0.05μm/℃/100mm（QZ） ■環境湿度による影響：なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
CAD設計からマスク製造まで行う一貫生産体制で高品質なフォトマスクをご提供いたします！
竹田印刷(株)ファインプロセス事業部と東京プロセスサービス(株)は、2023年4月に事業統合し、新たに「竹田東京プロセスサービス(株)」としてスタートしました！ 当社のフォトマスクは、工程ごとの厳しい品質管理を徹底するとともに、最新装置を駆使した短納期・低コストを実現することで、お客様の様々なご要求にお応えしています。 【製品ラインアップ】 ■クロムガラスマスク 高精細・高精度の画像形成が可能であり、マスク耐久性が高い ■エマルジョンガラスマスク フィルムマスクよりも環境影響を受けにくく、寸法安定性と解像性が良好 ■フィルムマスク コストパフォーマンスが高く、20～30μm程度の微細な画像形成も可能 【オプション加工】 表面コーティング / クロムガラスマスク向けコーティング / ペリクル付きクロムガラスマスク 【特殊対応製品】 ●静電破壊対応クロムガラスマスク ●精度校正用プレート ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
