レーザーを光源とした最新の装置により描画されているフォトマスクです。
フォトマスクとは、電子回路、表示デバイス、光学部品、精密機器などのパターンをウェハ、ガラス基板、プリント基板、金属板などに露光する際に使用される原板のことです。 フォトマスクに描かれたパターンは多くの電気製品、半導体、テレビ、スマートフォン、ノイズフィルター、スケール、ネットワーク回線関連製品に使用されております。 エクアがご提供するフォトマスクは、主にレーザーを光源とした最新の装置により描画されております。 エクアは図面からデータを作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○露光用の原板 ○レーザーを光源とした最新の装置により描画 ○多様なニーズに対応 ○回路基板や光学部品のパターンをCADを用いて設計 ○基材の種類： ガラス基板がソーダライムと合成石英の2種類、フィルムがPET 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【仕様】 [基材の種類] ○ガラス基板 →合成石英(Qz)：透過率 90% / 200nm 以上 →ソーダライム(SL)：透過率 83% / 380nm 以上 ○フィルム基板 →PET：透過率 90% / 200nm 以上 [クロム膜] ○ガラス基板上のクロム薄膜は2層構造 →1層目がピュアクロム、2層目が酸化クロム ○クロム膜の種類と構造 →クロムマスク：低反射二層クロム膜 光学濃度3.0OD, 反射率は約10％/436nm →ハードコート付きクロムマスク 透明樹脂がクロムの膜面上に2～3umほどの厚みで塗布 →ペリクル付きクロムマスク：クロムマスクの表面にペリクルを装着 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
価格情報
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納期
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用途／実績例
【用途】 ○プリント基板やICパッケージ基板 ○液晶、タッチパネルなどの表示デバイス ○光学フィルター ○光導波路 ○スケール、エンコーダ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
企業情報
株式会社エクアの薄膜製品は、高精度描画装置、高度な薄膜形成技術、ガラス加工技術をもとに生み出されております。ステッパー用、アライナー用フォトマスク、その他汎用マスク、エンコーダー、焦点板、解像力チャートなど微細なフォトエッチング製品に小ロットより対応いたしております。