半導体製造装置の製品一覧
- 分類：半導体製造装置
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用途はアイデア次第！ 重い物が 楽に 軽く 回せる 小型旋回ベアリング「楽っかる(らっかる)」！
- 金属軸受・ベアリング
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 蒸着装置
- スパッタリング装置
- アニール炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 蒸着装置
- スパッタリング装置
- エッチング装置
nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場！従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。
標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ：Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力：5 x 10-5 Pa（10-3paまで10分、10-4paまで20分以内） ● 2"マグネトロンカソード x 2：自動連続多層膜, 2源同時成膜（RF/DCのみ） ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統（Ar, O2, N2） ● 主排気TMP、粗挽RP（*ドライポンプ オプション） ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属：システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
コンパクト、70ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込み、様々な用途に対応するマルチ薄膜装置
- スパッタリング装置
- 蒸着装置
- CVD装置
ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar） [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
半導体後工程検査にて安定した検査が可能なシートソケット！高速・高密度測定を可能にする「PCR」とは？動作原理等の技術資料を進呈！
- その他電子部品
- ソケット
- 半導体検査/試験装置
大豆・小豆・黒豆の表面を光沢仕上げ！ 非水洗で栄養を守る大豆研磨機・除塵機・豆クリーナー
- その他食品機械
- ウエハ加工/研磨装置
毒性ガス漏洩の緊急時に無害化します。（高圧ガス保安法一般則第55条第1項 対応可）
- CVD装置
- プラズマ表面処理装置
- ガス回収/処理装置
大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。現地での排気ガス成分分析による処理剤設計もします。
- CVD装置
- プラズマ表面処理装置
- ガス回収/処理装置
2021年12月15日(水)～17日(金)】SEMICON Japan 2021 Hybridへ出展します
株式会社巴商会は、2021年12月15日(水)～12月17日(金)に東京ビックサイトで 開催されます『SEMICON Japan 2021 Hybrid』に出展いたします。 安全・安心・安定を提供し、お客様や社会の発展に貢献することを今年の テーマとし、ガスの供給から除害まで、国内から海外まで、省エネ製品を 含め、幅広いサービスおよび設備をご紹介予定です。 【主な出展品目（予定）】 ■有機金属化合物 - Dockweiler Chemicals社製品 ■有機金属化合物 - Nouryon社製品 ■容器元弁遮断装置「VS / AVS」 ■ガス供給システム「Smartシリーズ、TMシリーズ」 ■排ガス処理装置「MAKシリーズ」、新製品（参考出展） ■横浜研究所 ■感染症対策製品 皆様のご来場を心よりお待ちいたしております。
製膜スピードＵＰ＆高い密着性！導入コストや維持費も低いＤＬＣコーティング装置
- プラズマ発生装置
- CVD装置
- プラズマ表面処理装置
高感度検出・定量化・可搬性に優れ、品質検査や研究開発の現場に好適。微小な付着異物や傷の検出とその定量評価に貢献いたします。
- 半導体検査/試験装置
- その他 衛生検査
- その他 外観・画像検査装置
『第25回 nano tech 2026 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議』に微粒子可視化システムを出展いたします。(2026.1.28.(水)-1.30.(金)/東京ビッグサイト 西ホール会議棟 西1ホール 1階 1W-Z34)
"製造現場での微粒子による不良率悪化やクリーン化に関する課題を解決します 新日本空調の微粒子可視化システムは、ViESTブランドとして独自に開発した超高感度カメラと光源を組み合わせ、クリーンルームや装置内の微小粒子を可視化することができ、その挙動をリアルタイムに映像化しながら、粒子情報の定量化も行うことができる世界最高水準の可視化システムです。現在、国内外において、システムやツールの販売、それらを利用した受託技術サービスを展開中です。特に、半導体業界をはじめ、クリーンルームにおける実績が豊富です。 以下は適用例の一部ですが、私達の技術を用いることで、微細な異物による不良率の悪化、清浄気流の見える化、現場のクリーン化に関する悩み、といった諸問題の解決を強く推し進めることができます。 ・製造ライン中の微細粒子や気流の可視化調査と環境改善 ・製造装置内や製造環境のクリーン化推進 ・各種設備性能のクリーン度評価 ・コンタミ問題に起因する歩留まりや品質低下の改善 ・微粒子や気流の可視化を要する研究開発の支援 ・製品からの粒子発生量評価"
LOGENEST LAMBDA AEP-4は真空かつ150℃以上の高温環境下でも汚染リスクやメンテナンス頻度の低減が期待できます
- その他半導体製造装置
- プリント基板
最高レベルの長寿命性。極高真空下（10-8Pa以下 ）にてアウトガスが発生しにくいグリス（グリース）です。
- その他半導体製造装置
- 真空機器
ホームページにて真空設備用グリースの製品情報を公開しました
半導体製造装置向け「LOGENEST LAMBDA（ロゲネストラムダ）」シリーズの製品紹介ページとなります。 ご覧いただけますと幸いです。
【歩留まり改善】半導体製造装置内で発生するコンタミを低減するグリス（グリース） 『LOGENEST LAMBDA TKM-03』
- 潤滑油
- その他半導体製造装置
- フォトマスク
熱反射×レーザー技術で、LITでは検出が難しかった金属層下の発熱箇所を2μmまで絞り込み、発熱解析の限界を突破します。
- 半導体検査/試験装置
- 欠陥検査装置
【表面の異物・汚れ・傷を可視化！】歩留り管理、品質管理、清掃管理、衛生管理の日常管理ツールとして好評です。※デモ機貸出中
- 外観検査装置
- 半導体検査/試験装置
- 欠陥検査装置
『第25回 nano tech 2026 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議』に微粒子可視化システムを出展いたします。(2026.1.28.(水)-1.30.(金)/東京ビッグサイト 西ホール会議棟 西1ホール 1階 1W-Z34)
"製造現場での微粒子による不良率悪化やクリーン化に関する課題を解決します 新日本空調の微粒子可視化システムは、ViESTブランドとして独自に開発した超高感度カメラと光源を組み合わせ、クリーンルームや装置内の微小粒子を可視化することができ、その挙動をリアルタイムに映像化しながら、粒子情報の定量化も行うことができる世界最高水準の可視化システムです。現在、国内外において、システムやツールの販売、それらを利用した受託技術サービスを展開中です。特に、半導体業界をはじめ、クリーンルームにおける実績が豊富です。 以下は適用例の一部ですが、私達の技術を用いることで、微細な異物による不良率の悪化、清浄気流の見える化、現場のクリーン化に関する悩み、といった諸問題の解決を強く推し進めることができます。 ・製造ライン中の微細粒子や気流の可視化調査と環境改善 ・製造装置内や製造環境のクリーン化推進 ・各種設備性能のクリーン度評価 ・コンタミ問題に起因する歩留まりや品質低下の改善 ・微粒子や気流の可視化を要する研究開発の支援 ・製品からの粒子発生量評価"
安定したスラリー供給を実現！GEMU 半導体製造向けスラリー供給アプリケーション事例
- バルブ
- その他半導体製造装置
モジュラータイプをカスタムオーダーメイド！メンテナンス簡単・フレキシブルな組み合わせをお客様にて実現！
- バルブ
- その他半導体製造装置
新しい形で半導体薬液供給にかかわる排圧弁のソリューションを提案！幅広い用途に合わせて選択できます。
- バルブ
- その他半導体製造装置
鋳物の試作品の納期でお困りではありませんか？鋳鉄、アルミ鋳物、ステンレス鋳物(ロストワックス鋳造)の「鋳物試作サービス！」
- その他半導体製造装置
シート基板の品質を保証！自動車部品の信頼性向上に貢献
- その他検査機器・装置
- 基板検査装置
- 半導体検査/試験装置
OptiSeal VSEは万能な外圧用面シール。低摩擦で耐薬品性に優れ極低温から高温環境に使用可能！
- シール・密封
- その他機械要素
- その他半導体製造装置
JIS B2401のP番溝に対応した過酷な環境でも利用可能なロッド/ピストン兼用シール。低摩擦で耐熱、耐薬品性に優れる。
- その他機械要素
- その他半導体製造装置
- シール・密封
最短半日見積り／聞いてみたいけど．．．と、お思いの方必見！！
- 半導体検査/試験装置
調達業務を効率よく。時間コストの削減で生産性UP
「高品質」な部品を1個から！「リーズナブル」な価格で調達します。 製造業の景気降下が続き、先行きも不透明。 そんな今、私たちが提案できることは… 製造工程の効率化、円滑化の必要性 スマートファクトリーやIoTだけじゃない。 ➡弊社には、調達業務・工程管理を簡素化する独自の調達モデルがあります。 フライス、旋盤、板金 等、多様な機械加工部品を一社購買。見積り、加工、表面処理、品質保証まで 全て弊社が管理、ご依頼からワンストップで完結します。国内外に約800社もの協力企業と提携している為、 納期、精度、加工ニーズに対応する安定した部品供給を提供できます。 高品質製品 受け入れ部品の品質が悪く、修正や再製作が多い。検査に掛かる不良品数も上がりがち… ➡弊社では、調達部品を納品前に自社精密検査室にて全箇所検査します。 不良は未然に対処、御社の検査負担の軽減にも繋がります。 コストを抑えたい 図面1枚、部品1個から対応。それでもリーズナブル ➡加工屋と変わらない価格を実現します。 図面をPDFにてお送りいただくだけ、無料お見積りでお試し下さい。
