フッ化カルシウム（CaF2）
紫外線/可視光/赤外線アプリケーション向けの光学材料
当社の『フッ化カルシウム（CaF2）』は、長年に渡って半導体製造における マイクロリソグラフィーの鍵を握る材料として使用され続けています。 エキシマレーザーの光学系の素子として標準的に用いられており、更に その特長的な性質は様々な分野のアプリケーションへ応用されています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長（Lithotec(R) CaF2）】 ■深紫外130nm～赤外8μmの広波長域に対する高透過率 ■低い屈折率（nd=1.43384） ■低いスペクトル分散（vd=95.23） ■157m、193nm、248nmといったエキシマレーザーに対する優れたレーザー耐久性 ■高エネルギー分子や放射線への強い耐久性 ■直径420mmと大型の結晶 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
- 企業：Hellma Materials Japan株式会社
- 価格：応相談
