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分析機器測光用や熱源用など様々な特長をもったキセノンフラッシュランプを掲載！
当カタログは、工業用計測機器の製造及び販売を行っている 株式会社菅原研究所の『キセノンフラッシュランプ』を掲載した 製品カタログです。 分析機器測光用の高安定キセノンフラッシュランプ「FX-721／FX-711」を はじめ、熱電用の「X-800L」、閃光時間の短い「X-63KN」など 当社取扱い製品を豊富にご紹介しております。 【掲載内容】 ■分析機器測光用 ■熱源用 ■極めて短い閃光時間 ■大光量ロングライフ ■リングタイプ など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ウシオの光で出来ること『不純物拡散』
統と豊富な実績を持つウシオ社の 光加熱用光源の実用例（不純物拡散）のご紹介です 【特徴】 ○使用光源：クセノンフラッシュランプ・ハロゲンヒータランプ ○半導体工程において、ソースドレインにインプラントを行い その後、アニール工程によってドーピングした不純物を活性化 ○クセノンフラッシュランプの特性を活かし ミリ秒単位という短時間で今までの活性層の深さに比較して 極めて浅い部分（nmオーダー）を高温アニールし 不純物の拡散を防ぐことが可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
キセノンフラッシュランプ （ＩＰＬ）
脱毛用ランプ・フォトフェイシャル用ランプ(IPL)・レーザー脱毛用励起ランプ・ＹＡＧレーザー励起ランプ等、各種ランプをご提供させて頂きます。
高効率／省エネルギー！基板の熱ダメージを最小限に抑え、表層のみ加熱することが可能
大面積基板への一括照射による高スループットを実現可能な 『フラッシュランプ』についてご紹介します。 当製品による光加熱は、物質の持つ「反射」、「透過」、「吸収」の 特性のうち、「吸収」の特性を利用して自己加熱させるものです。 また、非接触であるためクリーンな雰囲気を保ち、大気中・真空中など 加熱雰囲気も問いません。 【特長】 ■大面積一括照射 ・大面積基板への一括照射による高スループットを実現可能 ■高効率／省エネルギー ・当製品からの波⻑はSiの吸収特性に合致するため、効率よく昇温が可能 ■パルス制御による処理深さのコントロール ・基板の熱ダメージを最小限に抑え、表層のみ加熱することが可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
豊富なバリエーションで、数多くのアプリケーションのニーズにお応え！
当製品は、硬質ガラスを使用した『キセノンフラッシュランプ』です。 写真用、ディスプレイ用、タイミングライト用など、 豊富なバリエーションを揃え、φ3.2～φ20の様々な形状の製造が可能。 この他に、石英ガラスを用いた「石英製フラッシュランプ」も 取り扱っています。 【特長】 ■豊富なバリエーション ■硬質ガラス使用 ■写真用、ディスプレイ用、タイミングライト用などに好適 ■φ3.2～φ20の様々な形状の製造が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
