高効率／省エネルギー！基板の熱ダメージを最小限に抑え、表層のみ加熱することが可能
大面積基板への一括照射による高スループットを実現可能な 『フラッシュランプ』についてご紹介します。 当製品による光加熱は、物質の持つ「反射」、「透過」、「吸収」の 特性のうち、「吸収」の特性を利用して自己加熱させるものです。 また、非接触であるためクリーンな雰囲気を保ち、大気中・真空中など 加熱雰囲気も問いません。 【特長】 ■大面積一括照射 ・大面積基板への一括照射による高スループットを実現可能 ■高効率／省エネルギー ・当製品からの波⻑はSiの吸収特性に合致するため、効率よく昇温が可能 ■パルス制御による処理深さのコントロール ・基板の熱ダメージを最小限に抑え、表層のみ加熱することが可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【主な用途】 ■焼結：樹脂基板にダメージなく、上層のみ焼結できる ・例：導電性材料、結晶材料など ■接着：反りなどが発生することなく、接着することができる ・例：光ディスク、カバーガラスとフィルム接着など ■表面改質：瞬間的に高エネルギーを照射することで、表面の改質ができる ・例：表面水分除去など ■剥離：大面積を一括で照射することで、処理時間短縮ができる ・例：支持基板からのOLED剥離など ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■極浅接合層形成 ■シリサイド形成 ■超極薄酸化膜形成 ■強誘電体キャパシタの成膜 ■アモルファスシリコンのポリ化（結晶化） ■⾦属ナノインク、ナノペースト（銅など）の焼成、焼結 ■Si、SiC基板の活性化アニール など ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（2）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
加熱、硬化、洗浄、改質、表面処理、接着、露光、照明、治療、計測、測定・・・「光」のことなら、ウシオにお任せください。光源からユニット、光の装置まで、独自の光技術で、お客さまの目的や用途に応じた最適な「光」をご提案いたします（共同実験、共同研究、デモ機・実験機のお貸し出しも承ります）。