加熱装置の製品一覧
- 分類：加熱装置
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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。
- センサ
直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！
- その他半導体
- 加工受託
- ウエハー
冬の「困った」を足元から解消！雪や凍結による転倒の不安から解放され、安心・快適な冬をサポート。
- その他安全・衛生用品
- 加熱装置
- その他
落雪・凍結事故を防ぐ！強力磁石で屋根の金属部にワンタッチ後付けできる、雪・氷解かすルーフヒーター
- その他
- 加熱装置
- その他安全機器
電磁調理器（IHヒータ）や電子レンジと原理は同じ！電波領域（3kHz～3GHz）の電力を使用した高周波加熱
- 加熱装置
CFRP部材の耐摩耗性向上やSiC部材の酸化・反応防止などに対応。CO2排出量削減、カーボンニュートラルなどの実現を支援
- 加熱装置
- 表面処理受託サービス
- その他搬送機械
PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。
- 加熱装置
【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】総合カタログ
この度、MiniLabシリーズ薄膜実験装置のカタログを一新しました。 【MiniLabシリーズの特徴】 ◉スパッタ、蒸着（抵抗加熱・有機・EB）、アニール、プラズマエッチング等に対応 ◉モジュラー式 フレキシブルにコンポーネントの組合せを構成（ソース複合型、マルチチャンバーも可能） ◉コンパクト、省スペース設計（幅1,200 x 奥行560mm） ◉優れた操作性：直感的インターフェイス、操作が分散せず全てをタッチパネルで一元管理できます。 研究開発の現場で、必ずやお役に立てるものと確信しております。 ぜひご検討ください。
マイクロ波処理装置Multiwave 3000は生産を終了してから10年以上を経過し、安全確保のためサポートを終了しました
- 加熱装置
複雑で処理が面倒なサンプルでも簡単に前処理が可能！1台で分解・溶出・溶媒抽出・乾燥・濃縮・合成が可能です。
- 加熱装置
元素不純物の分析に必要な精度の高いサンプル分解・前処理について、安全性と生産性を向上させるポイントとは？<インタビュー記事掲載中>
近年、医薬品品質確保の要求の高まりに合わせ、不純物管理の必要性がより指摘されるようになりました。 特に無機物である元素不純物は、分析難易度の高さと品質への影響の大きさから重要視されており、グローバルのガイドラインであるICH Q3Dや各国薬局方で管理が規定されるなど、製薬企業は対応が必須となっています。 こうした背景を踏まえ、元素不純物の分析に必要な精度の高いサンプル分解・前処理について、安全性と生産性を向上させるポイントを、インタビュー記事として掲載中です。 ぜひご覧ください。
加熱・冷却時間を短縮し生産効率をアップ！温度上昇・下降時間が早く、生産用途で人気
- その他 オーブン・焼成機
- 加熱装置
- 冷却装置
防汚キャスタ採用！差圧計内3色表示によりHEPAフィルタ交換時期の視認性向上
- その他 オーブン・焼成機
- 加熱装置
大型・高精度温度制御・排気ダンパー付！プログラム運転機能充実
- その他 オーブン・焼成機
- 加熱装置
- その他 恒温器・恒温槽
V型コントローラ搭載！均一の加熱処理を考えたサイドフローのオーブン
- その他 オーブン・焼成機
- 加熱装置
- その他 恒温器・恒温槽
ラボの生産性向上：元素分析などの前処理用。マイクロ波は、密閉容器で安全に、より早く、より正確な結果を得ることができます。
- 加熱装置
電子レンジから高温加熱炉まで！マイクロ波加熱の基礎から応用、装置設計、課題解決、化学反応まで徹底解説
- 加熱装置
- マイクロ波反応装置
- 技術セミナー
金型加熱にはメタルニット！金型のダメージ（局部加熱や酸化）を低減いたします！金型形状にあわせた専用設計ができ、均一な加熱を実現。
- その他加工機械
- 加熱装置
- 鋳造機械
【 サーモテック ’2022 ご来場御礼！！ 】 2022年6月1日㈬~3日㈮ 東京ビッグサイトにて
東京ビッグサイトにて開催の【 サーモテック '2022 】が盛況のうちに終了しました。 当社ブースにも多くのお客様がお越しくださり、こころより御礼申し上げます。やはり一番の人気は「水素燃焼バーナ」でした。 水素と天然ガス の燃焼火炎の比較動画をご覧になり、様々なご質問や期待のお言葉を頂戴しました。 今後引き続いて水素バーナの開発とブラッシュアップを進め、お客様のニーズにお応えしていきたく思います。 そのほか、環境装置（現場出張デモ用脱臭装置）・塗装設備（ガスと電気のハイブリッド）・アルミ合金酸化物抑制炉をはじめ、表面燃焼バーナやパッケージミキサ等についても詳細資料のご要望をたくさんいただきました。ありがとうございました。
水素100％から都市ガス100％までの混焼比率に対応。低NOx燃焼かつ安定した火炎で、お客様のニーズにお応えいたします。
- 加熱装置
- 工業炉
- 乾燥機器
マイクロ波加熱の基礎から工学応用まで解説。高速・内部・選択加熱の原理、熱暴走や温度分布制御、加熱炉設計を学ぶ
- 加熱装置
- 高周波・マイクロ波部品
- 技術セミナー
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
VOXIA compact X線CT撮影装置
コンパクト設計、設置場所を選ばない省スペース設計。 コンパクトボディながら高度計算ソフトにより高解像度のデータを生成します。 ＊ X線管電圧：20〜90kV, 又は40〜最大130kV ＊ 焦点径：7μm（5μm@4W） ＊ 検出器画素：89μm、約320万画素！ ＊ サンプルサイズ：Φ120mm ◉ Vcap（制御ソフト）： 撮影対象物、目的に合わせたカスタムメイドの撮影ステージ。撮影から画像出力までの一連の作業をクリック操作だけで行えます。最速20秒で高速連続撮影、撮影開始から画像再構成まで約30秒で処理 ◉ VCT（再構成ソフト）： ご指定の撮影対象物に特化した自動計測・解析ソフトをカスタマイズ可能 撮影画像992 x 992ピクセル、プロジェクション数600の撮影データをわずか3.8秒で高速再構成！ ◉ MolcerPlus（3D表示解析）： 従来他のソフトウエアで困難であった測定条件を可能にするカスタムソフトウエア 画像化した物体を、表示・加工・計測するためのソフトウエア ●高い安全性、 ●多種・多様なサンプルにも対応 ●直感的HMI、簡単操作
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】自動連続多層膜・同時成膜 RF/DC/PulseDC
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
パッケージバーナーシリーズの「水素専焼仕様」！高い炉圧条件でも安定した火炎が得られ、業界を問わず幅広い分野で使用が可能です。
- 加熱装置
- 工業炉
- 乾燥機器
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】総合カタログ
この度、MiniLabシリーズ薄膜実験装置のカタログを一新しました。 【MiniLabシリーズの特徴】 ◉スパッタ、蒸着（抵抗加熱・有機・EB）、アニール、プラズマエッチング等に対応 ◉モジュラー式 フレキシブルにコンポーネントの組合せを構成（ソース複合型、マルチチャンバーも可能） ◉コンパクト、省スペース設計（幅1,200 x 奥行560mm） ◉優れた操作性：直感的インターフェイス、操作が分散せず全てをタッチパネルで一元管理できます。 研究開発の現場で、必ずやお役に立てるものと確信しております。 ぜひご検討ください。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
VOXIA compact X線CT撮影装置
コンパクト設計、設置場所を選ばない省スペース設計。 コンパクトボディながら高度計算ソフトにより高解像度のデータを生成します。 ＊ X線管電圧：20〜90kV, 又は40〜最大130kV ＊ 焦点径：7μm（5μm@4W） ＊ 検出器画素：89μm、約320万画素！ ＊ サンプルサイズ：Φ120mm ◉ Vcap（制御ソフト）： 撮影対象物、目的に合わせたカスタムメイドの撮影ステージ。撮影から画像出力までの一連の作業をクリック操作だけで行えます。最速20秒で高速連続撮影、撮影開始から画像再構成まで約30秒で処理 ◉ VCT（再構成ソフト）： ご指定の撮影対象物に特化した自動計測・解析ソフトをカスタマイズ可能 撮影画像992 x 992ピクセル、プロジェクション数600の撮影データをわずか3.8秒で高速再構成！ ◉ MolcerPlus（3D表示解析）： 従来他のソフトウエアで困難であった測定条件を可能にするカスタムソフトウエア 画像化した物体を、表示・加工・計測するためのソフトウエア ●高い安全性、 ●多種・多様なサンプルにも対応 ●直感的HMI、簡単操作
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】自動連続多層膜・同時成膜 RF/DC/PulseDC
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
