プラズマCVD装置(半導体) - 企業1社の製品一覧

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

● トレーカセット方式を採用。 　 1. 搬送時間短縮により高スループットを実現。 　 2. トレー変更によりφ2インチ〜φ8インチのウエハーに対応可能。 ● 真空カセット室を採用。 　 1. 1カセット1回の真空排気により高スループットを実現。 　 2. コンタミネーションの影響回避やウエハー表面の酸化を防止。 ● 納入実績の豊富なPD-220Lの反応室をさらに信頼性の高いものに改良。

• 企業：サムコ株式会社
• 価格：応相談

• CVD装置