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NF3最大流量8slm、独自のPEOプラズマブロック設計によりプロセス性能と寿命を向上！
「Paragon（R）」は、量産実績のあるMKS低磁場トロイダルプラズマ源の特性を基に、次世代ナノプロセス開発と製造に、より適したデータ転送と制御性を実現しました。 CVDおよびALD／ALEプロセスチャンバークリーニングに対応し、8slmのNFガス流量および最大10Torrの圧力条件においても高い分析効率（＞98％）が得られます。 【特長】 ■NF最大流量8slm、コンパクトな設計でクリーニング時間短縮 ■PEOコーティングを採用した独自のプラズマブロック設計により、プロセス性能と寿命を向上 ■RoHS適合、CE、S2、F47 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多目的用途に対応可能なICP、中性原子、イオンソース！プラズマソースをご紹介
当社で取り扱う『PLUME シリーズ』をご紹介します。 粉体やインライントリートメント用、リモートプラズマソース/ イマースドプラズマソースとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■多目的用途に対応可能なICP、中性原子、イオンソース ■粉体やインライントリートメント用 ■リモートプラズマソース/イマースドプラズマソース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
MWPECVD用R&D装置に好適！MW-SURFATRONSは常圧または減圧に対応
『MIRENIQUEシリーズ』は、マイクロ波プラズマソースです。 PECVD用やダイアモンド・DLC・CNTやプラズマアシスト重合など向けで、 リアクター及びプラズマソースは、MWPECVD用R&D装置に好適。 MW-SURFATRONSは常圧又は減圧に対応しています。 【特長】 ■PECVD用やダイアモンド・DLC・CNTやプラズマアシスト重合など向け ■MWPECVD用R&D装置に適したリアクター及びプラズマソース ■MW-SURFATRONSは常圧又は減圧対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます
日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
