ON-WAFER処理のためのインテリジェントプロセスコントロール
『R*evolution V』は、実績のある低磁場トロイダルプラズマ技術、 高度な通信機能、高精度パワー制御機能を一体化した製品です。 当シリーズのリモートプラズマソースは、フォトレジストストリップや 様々な表面処理など、酸素ラジカルベースのアプリケーションに適しています。 またEtherCAT通信プロトコルにより、クリティカルなプラズマソース動作 パラメータをプロセスツールや工場ネットワークへほぼリアルタイムに 情報提供することを可能としています。 当製品は、プロセスツールの高稼働率を維持するためのプロセスパラメータの モニターや変更と稼働状況診断 (APC/FDC) アプリケーションをサポートする ための情報をプロセスツールや工場データベースへ流通させることができます。 【特長】 ■チャンバに直接設置できる機能内蔵一体型ユニット ■高密度酸素系プラズマ用石英アプリケータ ■最大6kWの出力 ■高い出力再現性 ■高精度出力コントロール＜1％ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【その他の特長】 ■高速、高信頼性イグニッション ■工場内電力品質障害に対するTHD耐性 ■フォトレジスト除去、ゲート窒化、酸化、選択エッチング、 ウェハ前洗浄などのアプリケーション対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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弊社は、半導体デバイス、FPD、OLED、太陽電池、データストレージ、コーティングなどの薄膜アプリケーション、または医療機器、エネルギー、環境モニター、バイオ医薬などの産業アプリケーションなど、成長産業における製造プロセスの最新技術を提供するグローバルリーディングカンパニーです。 世界各地のサービスセンタよりワールドワイドなサポートを行っています。