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幅広い用途に使われるプラズマ電源！トルンプがお客様個別の要件にお応えします
信頼性が高く堅牢なDC電源・MF電源・RF電源ユニットは、様々な産業・ 用途に対応し、過去数十年にわたってお客様から揺るぎないご支持を 得ております。 力強さが特長の「TruPlasma DC 3000シリーズ（G2）/4000（G2）」を はじめ、アーク放電のスペシャリスト「TruPlasma Arc 3000シリーズ」、 高いピーク出力を有する「TruPlasma Highpulse 4000シリーズ（G2）」 などを掲載。 経験豊富なプロセスエキスパートが好適なソリューションを提供します。 【掲載内容（一部）】 ■プラズマ励起をどのように活用しているか ■お客様の日々の悩みを解決 ■TRUMPF Hüttinger製電源－ニーズに適した電力供給 ■電源以外にも必要なものがある ■ともにプラズマの未来を拓く ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
プラズマ電源、大型プラズマ電源
プラズマやレーザー励起等の特殊な電源装置 連続波 数KHz 600KW CW 2〜5ＭＨz 100〜300kW CW 13.56MHz 450kW CW パルス〜連続波対応 13.56MHz 50kW 他励 40MHz 40kW 自励 100MHz 20kW 自励 基本波２山程度〜CW迄 ２周波変調 例えば10KHz+100KHz
Economic, Simple, Quality
Kjellberg plasma power source - smart focus 300 and smart focus 400 1. Economical Price 2. Low cost & high efficiency 3. Reduce consumables 4. Wide application range
重要なプロセスにおける完全なコントロール！最大限のスパッタ率が確保されます
『TruPlasma MF 7000（G2）シリーズ』のジェネレータを使用すれば、 非常に重要なプロセスでも完全にコントロールを握ることができます。 たとえば、建築用ガラスへのSiOxなど難度の高い材料のコーティング、 フラットパネルスクリーンへのAlxOyコーティング、ソーラーガラスへの TCOコーティングなどです。 当社が開発した高度なMF技術により、非常に薄く（nmレベル）、高強度で 完全に均質なレイヤにすることが可能。豊富な周波数ラインアップにより、 様々なプロセスで活用いただけます。 【主な利点】 ■高い反応速度とそれに対応する残留エネルギーの低減により、 安定したプロセスと最大限のスパッタ率が確保される ■フレキシブルな冷却コンセプト ■独自技術"イグニッションサポート"技術により、効果的なプラズマ点火 ■豊富な周波数ラインアップにより、様々なプロセスで活用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
太陽電池の製造など、重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮する電力供給装置！
『TruPlasma DC 4000（G2）シリーズ』は、美しい光学コーティングを 可能にするプラズマ電源です。 難度の高い材料の反応性スパッタリングプロセスに役立つように特別に設計。 このジェネレータは、太陽電池の製造、半導体の製造、硬質コーティングなど 重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮します。 【特長】 ■きわめて小さなアークエネルギー ■超高速デジタル制御プラットフォーム ■逆電圧は調整可能 ■幅広く調整可能なパラメータ：波数およびパルスパラメータ ■非常に高度な監視ツール ■完全水冷式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
プラズマ励起用13.56MHHz RFジェネレーターと整合器（マッチボックス）を展示
弊社は2024年12月に開催される「SEMICON Japan 2024」に出展いたします。 半導体製造装置に最適なプラズマ電源ソリューションの最新製品情報を展示するとともに、お客様のご相談を承ります。ご来場、弊社ブースへのお⽴ち寄りを⼼よりお待ちしております。 【開催概要】 ■日時：2024年12月11⽇（⽔）〜13⽇（⾦） ■会場：東京ビッグサイト ■住所：〒135-0063 東京都江東区有明3丁目11−1 ■ブース番号：3611（東3ホール） ■最寄り駅 ・りんかい線 国際展示場駅下車 徒歩約7分 ・ゆりかもめ 東京ビッグサイト駅下車 徒歩約3分 ■参加費：無料（⼊場登録が必要です）※ご登録は展⽰会主催者サイトから
