【動画】半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」
2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロスライト社のTCAD。無料試用版あり!
■下記YoutubeにてNovaTCADによるシミュレーションの自動処理の動画を公開中! ■試用版のご希望は「試用版お申込フォーム」から (製品の詳細については、製品紹介の資料をご覧ください)
- 企業:クロスライトソフトウェアインク日本支社
- 価格:応相談
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2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロスライト社のTCAD。無料試用版あり!
■下記YoutubeにてNovaTCADによるシミュレーションの自動処理の動画を公開中! ■試用版のご希望は「試用版お申込フォーム」から (製品の詳細については、製品紹介の資料をご覧ください)
CSupremにおける物理モデル
イオン注入(ion implantation), 蒸着(deposition)、エッチング(etching)、拡散(diffusion)、酸化(oxidation)に対する物理モデルをベースに様々な半導体構造の1次元、2次元および3次元のプロセスシミュレーションが可能。IC製造工程の研究開発コストをコントロールするのに欠くことのできない信頼のある正確なシミュレーションツール。デバイスシミュレーターのためのドーピングプロファイル(doping profile)を出力可能。
貴社のニーズにマッチしたAVEVAソリューションをご提案・ご提供いたします
AVEVA社のソリューションプロバイダーとして、”プラントエンジニアを中心としたメンバー”によるAVEVA Process simulation(APS)を活用したエンジニアリングサービスを提供。 APS活用により研究開発から保全まで生産活動の色々な場面でお客様のサポートを行っています。 従来のプロセスシミュレーターでは実現できなかった様々な課題を解決致します。