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【動画】半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

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NovaTCAD

最終更新日:2020年05月12日

クロスライトソフトウェアインク日本支社
クロスライトソフトウェアインク日本支社
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2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロスライト社のTCAD。無料試用版あり!

  ■下記YoutubeにてNovaTCADによるシミュレーションの自動処理の動画を公開中! ■試用版のご希望は「試用版お申込フォーム」から (製品の詳細については、製品紹介の資料をご覧ください)

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Tools.JPG

【動画】半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

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基本情報

<インターフェイス> ■プロセスシミュレーションとデバイスシミュレーションがGUIを通して制御可能(マスクイメージの編集機能、物理モデルやバイアス設定、結果の解析・表示機、自動処理など) <材料マクロ (APSYS)> ■化合物 (InGaAsNSb, AlGaAsSb, InAs, InAlAs, InP, InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlAs-oxide, sapphire, etc.) ■有機物 (BPhen, BCzVBiドープCBP,CuPc, LiF, etc.) ■その他 (GaP, CdS, ZnTe, ZnSe, ZnS, etc.)

価格情報

-

納期

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用途/実績例

<適用デバイス・モデル> ■LDMOS ■LIGBT ■シリコン(ダイオード、JFET、NPNバイポーラ、TFT) ■CCD、CIS ■FDTD(2D/3D Lense、光検出器) ■HBT ■HEMT、FET ■LED(GaN MQW, QDot, OLED, RCLED.) ■デバイスと回路の混在シミュレーション ■NANDフラッシュメモリー ■NEGF(FINFET, HEMT, nanowire, NMOS) ■QWIP ■MESFET ■RTD ■ショットキートンネリング ■フォトニック結晶 ■光検出器 ■太陽電池 ■トンネル接合 ■TypeII型量子井戸光検出器 など <解析・プロット> ■物理量の空間分布 (ポテンシャル、キャリア密度、電流分布、バンド図、光モード分布、熱解析、多重量子井戸の波動関数、etc.) ■バイアス依存性 (L-I特性、I-V特性、電流と利得、電流と屈折率変化、etc.) ■スペクトル (モード利得、自然放出、屈折率変化、etc.) ■交流解析 (周波数特性、過渡解析、etc.)

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LDMOSのデバイスとプロセスシミュレーション(LDMOS Device and Process Simulation)

LDMOSのデバイスとプロセスシミュレーション(LDMOS Device and Process Simulation)

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半導体デバイス 汎用2D/3D解析・設計ソフトウェア APSYS

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クロスライトソフトウェアインク(前Beamtek Software Inc.)は1992年にカナダ国家科学研究委員会から独立しカナダに本社を設立したインターナショナル企業です。 現在、バンクーバーに本社を構え、1997年上海拠点、2001年9月千葉市に日本支社を設立しました。 当社は、各種半導体レーザーデバイス、発光、受光素子、MEMSおよびMOCVDプロセス等の物性を解析するCADソフトウェアの開発元として、常に最先端な技術で半導体オプトエレクトロニクス、電子デバイス・プロセス技術の先端物理モデルを提供するリーダーカンパニーです。 当社主力製品の3次元半導体レーザーダイオードシュミレーターPICS3Dは1998年、業界誌 Laser Focus World「レーザーフォーカスワールド」より Commercial Technology Achievement Award 「最優秀製品技術賞」を受賞しました。

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