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ホットプレート(クールプレート) - 企業1社の製品一覧

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卓上ホットプレート 2モデル <250℃仕様/350℃仕様>

コンパクトでありながら、高性能。 幅広いプロセスに対応。

ホットプレートの性能は、フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要なファクターです。 特に、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が要求される先端プロセスや、 温度依存性の高い材料でのプロセス開発においては、 ホットプレートの性能が、プロセスパフォーマンスを見極める大きな要因となります。 タイマー制御のピンアップ機構により、正確な時間管理を実現。 ウェーハ間の均一な熱処理を可能にしました。 標準250℃モデルに加え、高温350℃モデルもご用意。 また、処理前後に均一な冷却が必要な場合は、卓上クールプレートも ご利用いただけます。 【特長】 ■高精度な面内温度均一性。 ■タイマー制御により、ウェーハ間差を低減。 ■3~8インチに対応。 ■プロキシミティーボールにより、均一なギャップを確保。 ■高温350℃モデルには、火傷防止カバーを装備。 ■空冷・水冷の卓上クールプレートもご利用可能。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体製造装置
  • 加熱装置

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