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半導体向け装置「CMP処理後スクラブ洗浄装置」

ご要望に対応した装置を設計製作！CMP処理後のスクラブ洗浄装置

ヴァリアスでは半導体向け「CMP処理後スクラブ洗浄装置」を ご要望に応じて設計製作いたします。 また、ご依頼に柔軟性をもって装置製作以外にも対応します。 お気軽にご相談ください。 【特徴】 ○パルスJET洗浄 ○リンス洗浄 ○高速スピン乾燥 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 企業：ヴァリアス株式会社
• 価格：応相談

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