更新日： 集計期間:2025年11月26日～2025年12月23日
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半導体封止材や注型レジンなど様々な用途に使用可能なシリカ！
株式会社山森土本鉱業所では、インド等で産出される高純度石英を 原料として様々な粉砕・分級方法を組み合わせ『高純度シリカ粉末』の 製造を行っております。 フィラーとして、様々な用途にご使用いただいております。 【使用用途】 ■半導体封止材（EMC：エポキシモールドコンパウンド ■注型レジン ■シリコーンゴム ■塗料 ■接着材 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
球状シリカシリーズ / ゾルーゲル法による単分散粉末
Sukgyung ATでは、トナーの使用量を節約するための球状シリカ粉末を開発しました。ゾルーゲル法を用いて製造される球状シリカ粉末をトナー粒子に塗布することによってトナーの使用量の大幅な削減が可能となります。 すでに多くの海外有力企業様にご好評頂いております弊社の球状シリカ粉末から、RoHS規制対象の元素は検出されておりません。 さらに、弊社の研究開発センターでは、お客様のご用途に対して、様々なご要望に対応する、最適な粒子サイズの調整と多様な表面処理をご提供いたします。
ガスフロー式で、N2,O2ガスを流すことが可能！オプションにて第三のガスも流せます
『MAT-200KA』は、4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発された 電気炉です。 ガスフロー式で、N2,O2ガスを流すことが可能。 均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御されます。 また、オプションにて第三のガスを流すことができます。 【特長】 ■4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発 ■均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバにに移動しガス冷却することが可能！
非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各種インターロック付きで、オプションとして 外径50及び60用熱処理チャンバとの交換取付ができます。 【仕様（抜粋）】 ＜熱処理チャンバ/加熱機構＞ ■外径40×長さ236mm 水冷式二重SUS316L円筒型 ■到達圧力：E-3Pa以下 ■真空排気/ガス導入：SWG1/4ベローズバルブ ■加熱方式：カーボン円筒ヒータ ■サンプルホルダー：φ15×φ12×50L 石英坩堝 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉！真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し！高温焼成及び溶融、ガス分析に！
『HFQ-1100』は、高温化での熱処理ができ、常用1100℃（最大1150℃） まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉です。真空及びガス置換雰囲気下での 熱処理に対応。高温焼成及び溶融、ガス分析に適してます。Oリング部は 強制空冷の為、冷却水循環装置が不要です。 【特長】 ■常用1100℃（最大1150℃）まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応 ■Oリング部は強制空冷の為、冷却水循環装置が不要 ■所要電力：AC100V 2kW ※オプションによりAC200V ■設置スペースはW540×D420×H568mmと省スペース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
１０００℃以上の耐熱性や耐薬品性が高い特長の『シリカ』の知識が深まる技術資料進呈中！
「ハイシリカ」（精製珪石粉等）を幅広い産業分野に提供している株式会社ニッチツが シリカの分類や特性、石英の特徴などを解説した技術資料です。 そのほか、石英粉末を溶融して製造した「溶融石英ガラス」や「合成石英ガラス」などの 活用例もご紹介しています。 ■シリカの特長 ・耐熱性が高い。１０００℃以上の高温に耐えることができます！ ・耐薬品が高い。酸、アルカリにわずかに溶けるが溶ける速度が極めて低い。 ■用途 半導体工業用、液晶用、光ファイバ、光学用、理化学用、 水銀灯、殺菌灯、赤外線ランプ、光ファイバ、半導体精製容器、シリコン単結晶引き上げ用るつぼなど… ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
