ガスフロー式で、N2,O2ガスを流すことが可能！オプションにて第三のガスも流せます
『MAT-200KA』は、4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発された 電気炉です。 ガスフロー式で、N2,O2ガスを流すことが可能。 均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御されます。 また、オプションにて第三のガスを流すことができます。 【特長】 ■4”＆6”GaAs-VGF炉の関連設備として開発 ■均一温度領域を長くするために3ゾーンに分離独立制御される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【仕様(一部)】 ■炉形式：3ゾーン半割り縦型 ■処理物：PBN坩堝 φ160mm程度 ■最高温度：～1100℃ ■常用温度：～1050℃ ■温度分布：1000±5℃ 350Lmm程度 ■昇温速度：1050℃/4H ■炉芯管：石英管特殊形状 φ210mm程度 ■発熱体：カンタルA1線 半円型φ250mm程度 ■熱電対：R種、K種等 ■断熱材：高温ファイバー成形品 など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【応用】 ■GaAs生産用に使用するPBN坩堝の内部を酸化する熱処理炉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、化合物半導体、電子材料用の研究開発者向けの特殊な結晶合成や 熱処理向けの炉メーカーとして、従来の垂直型組織を打破し、 迅速に顧客の要望に応えられるフットワークの軽い会社です。 当社の材料の知見と多くの経験に基づいた企画を提案して、 真に顧客の求める炉を製作してまいります。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。