EPMAによる薄膜の膜厚分布測定
極小領域の膜厚測定が可能に！電子線照射時に発生する特性X線の強度から膜厚を算出
当社ではEPMAによる薄膜の膜厚分布測定を行っております。 薄膜の膜厚測定は主に蛍光X線法やX線反射率法で行われており、X線を入射源と しているためある程度の広い測定領域の平均的な膜厚しか測定できませんでした。 それに対して電子線を活用することにより、極小領域（約1μm2）の膜厚測定、 さらに膜厚分布（マッピング）が可能となりましたので、ご活用ください。 【特長】 ■測定原理：電子線照射時に発生する特性X線の強度から膜厚を算出 ■使用装置：EPMA ■面分解能：約1μm ■最大測定膜厚：約1μm ■最小マッピング領域：約80×80μm ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社大同分析リサーチ
- 価格：応相談
