配管・真空チャンバー用加熱・保温ヒーター活用事例
配管に流れる気体・液体を加熱・保温する、あるいは真空チャンバーを加熱するヒーターです。
半導体製造装置メーカー、海外の半導体製造工場においては、半導体製造装置のガス配管中のガス寝込み(周囲温度が低いときにガスが液化する現象)防止用としてガス配管に取付けて使用する加温用ヒータです。
- 企業:株式会社スリーハイ
- 価格:応相談
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配管に流れる気体・液体を加熱・保温する、あるいは真空チャンバーを加熱するヒーターです。
半導体製造装置メーカー、海外の半導体製造工場においては、半導体製造装置のガス配管中のガス寝込み(周囲温度が低いときにガスが液化する現象)防止用としてガス配管に取付けて使用する加温用ヒータです。
真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 1500℃、としても利用できるバーサタイルなヒーターユニット
HTEヒーターは最高使用温度は1500℃の超高温真空用加熱ヒーターユニットです。 蒸発温度の高い材料も使用することができますので、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)・高温抵抗加熱蒸着(~ 1500℃)など、真空蒸着成膜用としても様々な用途に応用いただけます。真空成膜用蒸着ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも追加可能。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設計。 シャッターはフリップ式を採用。チャンバー内に複数の蒸着ソースを設置しても他のコンポーネントに干渉することがありません。 上部キャップを外すだけで坩堝を取り出すことができますので、材料の充填・補充作業に手間がかかりません。 本体部は、1cc 坩堝用(最大充填量1.5cc)、10cc 坩堝用(最大充填量15cc)があり、固定ベースをチャンバーから外さず本体ボディをベースに差し替えるだけで交換することが可能。 熱電対は2 種類、K タイプ、C タイプのいずれかをご指定いただけます。 るつぼ:アルミナ(標準)、石英、PBN、カーボンが選択できます。
遠赤外線の長波長域を利用して金属内部に熱エネルギーが効率良く入ります!
当製品は、ダイカスト金型の加熱・予熱・恒温に適したヒーターです。 金型の凹凸に合わせた仕様も製作でき、ライナーやピンの保温性能が 極めて高いのが特長。 アルミ・ダイカスト全般・150トンから大型3000トン超までのモデル対応が 可能です。 【特長】 ■ダイカスト金型の加熱・予熱・恒温に好適 ■ライナーやピンの保温性能が極めて高い ■金型の凹凸に合わせた仕様も製作可能 ■グラビティ対応モデルもご用意 ■オーダーメードの製作も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。