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加熱ヒータ(真空) - List of Manufacturers, Suppliers, Companies and Products | IPROS GMS

Last Updated: Aggregation Period:2026年06月10日~2026年07月07日
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加熱ヒータ Product List

1~7 item / All 7 items

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BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。

高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ●セミカスタム製品です。ご要望に応じて設計製作いたします。 ●予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易(M6スタッドボルト、支柱) ●RF/DCバイアス、基板回転などにも対応 【標準付属品】 ● 熱電対:素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● RF(150W)/DC(1KW)バイアス印加 ● 標準外ヒーター素線(Nb, Mo, Pt/Re, WRe他) ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更(PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他) ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子

  • 加熱装置
  • 加熱ヒータ

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◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃

真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 1500℃、としても利用できるバーサタイルなヒーターユニット

HTEヒーターは最高使用温度は1500℃の超高温真空用加熱ヒーターユニットです。 蒸発温度の高い材料も使用することができますので、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)・高温抵抗加熱蒸着(~ 1500℃)など、真空蒸着成膜用としても様々な用途に応用いただけます。真空成膜用蒸着ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも追加可能。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設計。 シャッターはフリップ式を採用。チャンバー内に複数の蒸着ソースを設置しても他のコンポーネントに干渉することがありません。 上部キャップを外すだけで坩堝を取り出すことができますので、材料の充填・補充作業に手間がかかりません。 本体部は、1cc 坩堝用(最大充填量1.5cc)、10cc 坩堝用(最大充填量15cc)があり、固定ベースをチャンバーから外さず本体ボディをベースに差し替えるだけで交換することが可能。 熱電対は2 種類、K タイプ、C タイプのいずれかをご指定いただけます。 るつぼ:アルミナ(標準)、石英、PBN、カーボンが選択できます。

  • 蒸着装置
  • 加熱装置
  • 電気炉
  • 加熱ヒータ

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超高真空・酸化雰囲気対応基板加熱ヒーター

ヒーターの大型化・任意形状対応、表面処理機構増設、真空装置接続等の対応が可能!

当製品は、制御応答性が高く、ガス放出のきわめて少ない構造の クリーンヒーターです。 試料直接照射加熱、及びホットプレート間接加熱ともに対応可能。 熱容量が小さく、超高真空中・大気圧中・酸素雰囲気中での使用ができます。 【特長】 ■均一照射が可能なハロゲンランプ ■経済的でエネルギー効率・応答性の高いヒーター ■石英ボディーランプ、高温対応の金属リフレクタ・ベースで構成 ■ガス放出が極めて少ない構造 ■最高温度900℃(温調測定点、真空中)加熱可能 ■非常に制御応答性が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他ヒータ
  • 加熱ヒータ

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乾燥処理装置

産業廃棄物が有価物に!高効率乾燥処理、燃焼装置未利用

株式会社実践環境研究所の食品加工汚泥乾燥処理装置は、真空乾燥・過熱蒸気乾燥併用型。食品加工汚泥・食品残渣・その他汚泥等の産業廃棄物を飼料・肥料等の有価物に!高効率乾燥処理。燃焼装置未利用。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。

  • その他理化学機器
  • 乾燥機器
  • 加熱ヒータ

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配管・真空チャンバー用加熱・保温ヒーター活用事例

配管に流れる気体・液体を加熱・保温する、あるいは真空チャンバーを加熱するヒーターです。

半導体製造装置メーカー、海外の半導体製造工場においては、半導体製造装置のガス配管中のガス寝込み(周囲温度が低いときにガスが液化する現象)防止用としてガス配管に取付けて使用する加温用ヒータです。

  • シリコンヒータ
  • 加熱ヒータ

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面状加熱CCヒータ

薄膜装置や半導体製造装置への組み込みに!1200℃以上の昇温可能な面状ヒータ

『面状加熱CCヒータ』は、熱源にC/Cコンポジット(炭素-炭素複合材)を 使用した薄型でコンパクトな製品です。 C/Cコンポジットを使用することで、シースヒータを用いた プレートヒータでは実現が困難な高い温度まで昇温することが可能。 また、ヒータ上部に設置したサセプタ上で加熱するため、均等に 加熱することができ、大気中では400℃以下、真空中や不活性ガス 雰囲気下であれば1200℃以上の昇温を行うことができます。 【特長】 ■サセプタによる均熱性 ■高温加熱の実現 ■C/Cコンポジット素材採用によるメリット ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • セラミックヒータ
  • 加熱ヒータ

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ガス分離型 面状加熱ヒーター『HFC-Ox』

均熱性に優れた面状ヒーター!

『HFC-Ox』は、C/Cコンポジット(炭素‐炭素複合材)を使用したヒーターが 石英ガラスに完全に覆われており、酸化雰囲気下で最高1,000℃までの 昇温が可能なガス分離型面状加熱ヒーターです。 主に、薄膜装置(CVD/スパッタリング等)や半導体製造装置(基板加熱/ フラッシュアニール等)への組み込みに適しています。 【特長】 ■大気中や酸化雰囲気中で1,000℃まで昇温可能 ■化学的に安定した石英ガラスを使用しており使用環境の影響を受けにくい設計 ■コンタミの発生が極めて少なくクリーンな状態で使用可能 ■ヒーターに用いるC/Cコンポジット素材は熱容量が小さく振動や衝撃及び  サーマルショックに強く速やかな昇温及び降温が可能 ■スペースを取らないコンパクトな設計 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他ヒータ
  • 加熱ヒータ

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