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加熱炉(温度計) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

加熱炉の製品一覧

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はじめてでも迷わない-用途×雰囲気×温度で“ぴったりの炉"

塩素炉/カーボン炉/メタル炉/マルチ雰囲気炉/管状炉の“できる雰囲気・到達温度・向いている用途"を超かんたん解説

当社で取り扱う、5つの炉の雰囲気対応・温度めやす・代表用途について ご紹介いたします。 Cl2/HClなどハロゲンに対応した「塩素炉」をはじめ、極低酸素×高温の 「カーボン炉」、クリーン&俊敏な「メタル炉」、湿潤も含む幅広さがある 「マルチ雰囲気炉」、まず“当たり"を見る小スケールの「管状炉」を ラインアップ。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■塩素炉 ・対応雰囲気:Cl2/HCl/不活性(N2・Ar) ・温度:〜1800℃級(機種・材質による) ・主な用途:塩素化/塩化揮発/ハロゲン化精製/表面改質 ■メタル炉 ・対応雰囲気:真空/空気/N2・Ar/少量H2 ・温度めやす:〜1800℃前後(機種による) ・主な用途:焼結・拡散接合/酸化・還元アニール/金属・セラミックスの結晶化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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管状炉|触媒活性化・反応挙動評価に対応

温度・流量・圧力・排気を同期記録し、触媒活性化条件を見える化

当社では、触媒活性化や反応挙動評価に適した「管状炉」を取り扱っております。 触媒処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気切替のわずかな違いが活性や再現性に影響します。 汎用管状炉では焼成前後の分析に留まり、反応開始・終了やガス発生挙動を把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、温度・流量・圧力・排気データを同期ロギングできます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力・排気データを同時記録 ■ 反応開始、終了、ガス発生のタイミングを把握 ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気分析ラインを設計可能 ■ 触媒活性化条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|露点制御・湿潤雰囲気による金属表面処理

露点・酸素濃度を管理し、金属表面の酸化防止・改質・前処理に対応

金属部品や粉末材料の表面処理では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、処理時間が表面状態や品質に大きく影響します。 特に、酸化防止、表面改質、コーティング前処理、親水化・疎水化処理などでは、乾燥雰囲気・湿潤雰囲気・還元雰囲気を切り替えながら、再現性よく条件を検討することが重要です。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理した表面処理条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ 金属表面の酸化防止、表面改質、前処理に適用 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|セラミックス焼結・緻密化条件の再現性向上

露点・酸素濃度を管理し、セラミックス焼結・緻密化条件を再現性よく評価

セラミックスの焼結・緻密化では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、昇温条件が、密度・気孔率・粒成長・表面状態に影響します。 特に、湿潤雰囲気での焼成、酸化・還元雰囲気の切替、乾燥→湿潤→乾燥などの雰囲気履歴を管理したい場合、通常の電気炉や管状炉では条件再現が難しくなることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理したセラミックス焼成条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ セラミックスの焼結・緻密化・高密度化条件を検討可能 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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