1～2 item / All 2 items
MEMS加工装置用イオン源に！ご要望に合わせたオーダーメイドが可能です
当製品は、大面積イオンビームによる高速ミリング処理に 適用できる大型イオン源です。 耐熱/低スパッタ率電極材料の採用により、低エネルギー アンペア級イオンビームを発生。 ご要望に合わせオーダーメイドいたします。 【特長】 ■荷電粒子軌道シミュレーションによるビーム均一性の最適化 ■耐熱/低スパッタ率電極材料を採用 ■低エネルギーアンペア級イオンビームを発生 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
先進プラズマ技術で微細加工の未来を拓く！当社の受託サービスについてご紹介
当社では、「プラズマ・イオンビームに関する新技術開発」を 行っております。 お問合せをいただいた後、詳細な打ち合わせと提案書・見積もりを 提出させていただき、ご契約後、開発装置設計を開始。 設計にご承認いただきましたら、製作、試験評価を行い、 結果レポートや装置図面を提出いたします。 研究開発テーマがあっても設計できる人がいないなどでお困りの時は ぜひ、当社にご相談ください。 【開発例】 ■ECRラインビームイオン源 ■化合物薄膜用スパッタ成膜装置 ■高出力ECRプラズマ源 ■荷電粒子エネルギーアナライザ ■マッチング素子 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
