東北大学技術：ヘリウムガスを用いない極低温冷却：T14-156
超電導冷媒や細胞凍結、半導体洗浄に利用可能
■東北大学技術のご紹介（T06-011_T07-149_T13-005_T14-156） ヘリウムは供給不安やコストが高いため、ヘリウムを用いた冷却システムは使用継続が困難な懸念がある。 本発明は、気体N2とスラッシュN2の二相流体を連続噴霧することで、ヘリウムを用いない急速冷却が可能である。具体的にはラバルノズルを用いて遷音速で噴霧することで、スラッシュN2を連続生成することを特徴とする。 細胞凍結の実施例では、液体窒素浸漬と比較して解凍時における細胞生存率が23%向上する結果を得た。本実施例に限らず様々な冷却システムへの適用の可能性がある。 また半導体洗浄において有害な薬液を使用しないレジスト除去への適用も検討可能である。
- 企業：株式会社東北テクノアーチ
- 価格：応相談
