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XylSKEWPHOS触媒
ジホスフィンとジアミンを配位子とする不斉ルテニウム触媒は、ケトン類の不斉水素化において極めて高い触媒活性、エナンチオ選択性を示します。 関東化学では、ジホスフィン配位子の構造について検討を加え、より高いエナンチオ選択性を与えるXlySKEWPHOSを配位子とする高選択的不斉水素化触媒(XlySKEWPHOS触媒)を販売しています。 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。
不斉反応をあきらめていたあのケトンが高エナンチオ選択的に光学活性アルコールへ！
北海道大学 大熊教授らと共同開発いたしました、これまでにないユニークな基質適用範囲をもつ、新しい不斉水素化ルテニウム触媒です。 ケトン類を高効率・高エナンチオ選択的に光学活性アルコールに変換します。 反応条件の選択により、ケトエステルをジオールに還元することも可能です。 触媒のバルク供給にも対応しており、工業化プロセスに有用です。 【特長】 ■ユニークな基質適用範囲 従来型の触媒では効率的に反応が進まなかった、かさ高い多置換ケトン類や無保護のヘテロ芳香族ケトン類、ケトエステル類などを高効率・高エナンチオ選択的に水素化。 ■kgスケールでの反応実績 数十kg規模での不斉水素化反応も実績あり。 基質/触媒モル比(S/C)10 000以上での反応も可能。 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。
