更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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次世代希土類金属錯体、非メタロセン型遷移金属触媒に至るまで幅広く対応！
当社では、特に重合用触媒に力を入れており、均一系遷移金属触媒の合成を 配位子合成から手がけて、実績を積み上げてまいりました。 豊富な有機合成の知識・経験をもとに既存の金属錯体だけでなく、新規に デザインされた金属錯体、さらには次世代希土類金属錯体、非メタロセン型 遷移金属触媒に至るまで幅広く対応させて頂きます。 【特長】 ■特に重合用触媒に力を入れている ■豊富な有機合成の知識・経験をもとに幅広く対応 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
オゾン処理をサポートする オゾン分解触媒です。
オゾン分解触媒・NOハニカムは、 セラミックハニカムに触媒を添着した空気浄化フィルタです。 オゾン（O3）は強い酸化力を有しており、 殺菌、ウイルスの不活性化、脱臭、脱色などの用途に利用されていますが、 その酸化力ゆえに 有機物に対する毒性を有し、 高濃度では人体にも悪影響を及ぼします。 オゾンの特長を活かし、安全に利用するために 当社のNOハニカムがオゾン分解触媒として使用されており、 触媒の作用によって オゾンを 酸素分子（O2）と酸素原子（O）に分解します。 オゾンによる殺菌・ウイルス不活性化処理が注目されています。
長期間に亘って高い脱硝性能を維持。様々な排ガスについて好適な触媒を選定することにより対応可能
ボイラー、自家発電装置、燃焼炉等各種固定燃焼装置、金属エッチングなどから発生する窒素酸化物（NOx）は、光化学スモッグ発生の最大の要因物質であり、NOxの排出規制が行われています。 NOxの除去方法は、触媒を用い還元剤としてアンモニアを使用する選択的還元法が一般的であり、この装置に使用される触媒が脱硝触媒です。 当社の『脱硝触媒』は、火力発電所のボイラー排ガス用をはじめとして各種排ガスの脱硝装置に使用されています。 【特長】 ■160～600℃の幅広い温度範囲で高いNOx除去率を示す ■排ガス中のSOxやダスト中の被毒成分の影響が少ない ■長期間にわたって高い脱硝活性を維持 ■硫安化合物等による後流機器トラブルを抑制 ■優れた耐熱性 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
99％以上の高効率で分解可能！ダイオキシン類を分解して無害な物質に直接転換できる
都市ごみや産業廃棄物などの焼却にともない発生するダイオキシン類が大きな社会問題となっています。 排ガス中のダイオキシン類を除去する方法には、活性炭噴霧吸着法、活性炭吸着塔法などがありますが、「触媒法」はダイオキシン類を分解して無害な物質に直接転換できるため、好適な方法の一つです。 【特長】 ■99％以上の高効率で分解が可能 ■160-350℃の幅広い温度領域での分解が可能 ■ダイオキシン類を無害な炭酸ガスや水に分解するため二次処理が不要 ■アンモニアを添加することにより、高効率でのNOx同時除去も可能 ■ダストによる触媒の目詰まりが少なく、触媒層の圧力損失が減少 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
排ガスの性状により好適な触媒の選定が可能！
当社の排ガス処理触媒（VOC、悪臭物質等の完全酸化触媒）は、創業以来培われた触媒技術をもとに厳密な品質管理のもとで生産されているため、長期にわたって安定した性能を発揮します。 主成分として、プラチナ、パラジウム等の貴金属を使用しており、低温領域においても優れた浄化作用を発揮します。 【特長】 ■排ガスの性状により、最適な触媒の選定が可能です。 ■低温で酸化活性に優れています。 ■高性能の貴金属触媒を使用していますので、高い脱臭効果が得られます。 ■排ガス中の被毒成分の影響が少なく、長期間安定して使用できます。 なお、排ガス中の被毒成分濃度が高い場合は、前処理触媒の使用をお奨めします。 ■圧力損失が小さく、ガスとの接触がよいために、安定した効果が得られます。 ■耐熱性に優れています。 ※詳しくは外部リンクまたはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
光のない室内でも消臭・抗菌・防汚効果を発揮！3種の用途別の無光触媒をご提案
『ベストクリーンコート』は、光がない所でも防臭・防カビ等の効果を長期間発揮する環境触媒です。 防臭・VOC対策(SK10)、防カビ・超親水性(KS20)、防汚・帯電防止(BO30)の効果を発揮します。 住宅・ホテルなどの部屋やトイレの防臭、VOC対策や浴室・トイレなどの防臭・防カビに最適です。 【特長】 ■光の当たらない室内の暗い場所でも長期間効果を発揮 ■空気中の酸素や水と反応して汚れや臭いのもとを分解 ■高品質なバインダー剤により様々な基材に使用可能 ■無色透明で素材の色彩を損なわない ■使用者や環境にやさしい安心な液剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
東北大学技術のご紹介（T07-233他）：低コストかつ簡便に、光触媒性能と親水性に優れた二酸化チタン薄膜を作製可能
実用の二酸化チタン光触媒は粉末を原材料とすることが多く、基板への固定化や密着性が産業利用上の課題であった。また、二酸化チタンは紫外光には活性だが、太陽光などの自然光の活性が乏しい点も長年の課題である。 本発明は、陽極酸化法を用いたルチル型二酸化チタン薄膜の製造技術に関するものであり、本法により比較的低コストで、光触媒性能と超親水性を併せ持つ、密着能の高い薄膜の創製が可能である（右表）。この薄膜は紫外光だけでなく可視光においても光触媒活性を示す（図１）。また、紫外線照射だけでなく可視光下でも水滴が0.005秒後に完全に薄膜表面で濡れ拡がり、“浸透性に優れたインクジェットプリンター用用紙”と同等の高速濡れ性を確認している（図２）。
第1級～第3級アミンをワンポットで合成可能！
カルボニル化合物からワンポットで第1級アミン、第2級アミンおよび第3級アミン化合物を温和な条件で合成できる高活性な還元的アミノ化触媒です。 【良好な反応性】 ■高い触媒活性 S/C=10 000の条件で、アセトフェノンから1-フェニルエチルアミンを合成可能 ■高い官能基選択性 ニトロ基やシアノ基などを持つアセトフェノン誘導体から官能基を損なわず第1級アミンを合成可能 ■高いジアステレオ選択性 置換基を持つ脂肪族環状ケトンから高ジアステレオ選択的に第1級アミンを合成可能 【反応操作が簡便】 ■特殊な反応装置が不要 水素源としてぎ酸アンモニウムまたはぎ酸を用いることから、耐圧容器などの特殊な設備を必要としない ■穏和な反応条件 60℃～還流条件下の反応条件で用いることができるため、実用性が高い ■空気中で安定 本触媒は空気中で安定に取り扱うことができるため、通常の実験設備で秤量可能 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。
官能基許容性に優れ、幅広い基質で反応可能！ケトンから直接的にキラルアミンが取得できます！更に、ワンポットでも反応可能です！
関東化学ではこれまでアミン類を穏和な条件下で合成できる、実用性に優れた還元的アミノ化イリジウム触媒を開発・販売しており、新たに不斉還元的アミノ化触媒を開発いたしました。特に、不斉補助基としてアミノアルコール類と組み合わせた還元的アミノ化反応において、これまで不斉合成が難しかった光学活性アミン類を簡便に合成することが可能となりました。 この度、鎖状のケトン基質に反応性が高いPSA18シリーズを追加ラインナップいたします。是非、製品開発や研究にご活用ください。 【特長】 ■高性能 高触媒活性、高立体選択性、高官能基選択性 ■短い反応工程 イミンの単離が不要で脱保護まで1potでも反応可能 ■簡便な操作性 還元的アミノ化、脱保護工程共に水素ガス・耐圧容器が不要 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。
安全面、環境面の両方に配慮した触媒です。
■不斉水素化触媒 (IPHAN DMAPEN触媒) 不斉水素化触媒では、ジアミン配位子としてDPENやDAIPENなどが一般的に用いられています。 関東化学では、ジアミン配位子をIPHANやDMAPENなどの別構造にかえることにより、環状ケトンやアミノケトン類などの不斉水素化において高いエナンチオ選択性を示す不斉水素化触媒 (IPHAN DMAPEN触媒)を販売しております。 ■不斉相間移動触媒（DIOXEAZEPINE） 金属を含まないDIOXEAZEPINE触媒は生成物への触媒由来金属混入を回避できることから、光学活性医薬品合成の有効な手段として期待されています。本触媒は光学活性α-αジアルキルアミノ酸合成に有用です。 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。
不斉反応をあきらめていたあのケトンが高エナンチオ選択的に光学活性アルコールへ！
北海道大学 大熊教授らと共同開発いたしました、これまでにないユニークな基質適用範囲をもつ、新しい不斉水素化ルテニウム触媒です。 ケトン類を高効率・高エナンチオ選択的に光学活性アルコールに変換します。 反応条件の選択により、ケトエステルをジオールに還元することも可能です。 触媒のバルク供給にも対応しており、工業化プロセスに有用です。 【特長】 ■ユニークな基質適用範囲 従来型の触媒では効率的に反応が進まなかった、かさ高い多置換ケトン類や無保護のヘテロ芳香族ケトン類、ケトエステル類などを高効率・高エナンチオ選択的に水素化。 ■kgスケールでの反応実績 数十kg規模での不斉水素化反応も実績あり。 基質/触媒モル比(S/C)10 000以上での反応も可能。 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。
XylSKEWPHOS触媒
ジホスフィンとジアミンを配位子とする不斉ルテニウム触媒は、ケトン類の不斉水素化において極めて高い触媒活性、エナンチオ選択性を示します。 関東化学では、ジホスフィン配位子の構造について検討を加え、より高いエナンチオ選択性を与えるXlySKEWPHOSを配位子とする高選択的不斉水素化触媒(XlySKEWPHOS触媒)を販売しています。 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。
ケトン類の水素移動型不斉還元反応および不斉水素化反応にご使用いただけます。
■改良型不斉還元触媒 光学活性なトシルジアミンを配位子とする不斉ルテニウム錯体は、ケトン類の不斉還元触媒として非常に有用ですが、かさ高い基質に対しては十分なエナンチオ選択性が得られない場合もございました。 関東化学ではスルホニル基を改良した不斉還元触媒がかさ高い基質に対して、高いエナンチオ選択性を発現する改良型不斉還元触媒を販売しております。 ■トリフラート触媒 アレーン配位子、トシルジアミン配位子をもつ水素移動型不斉ルテニウム触媒に解離性のアニオン配位子を導入することで水素が活性化され、水素移動型不斉還元触媒よりも高効率でケトン類の不斉水素化反応を行うことができます。 トリフラート触媒は強塩基が含まれていないため、中性～弱酸性下で反応が進行します。したがって、塩基性条件下で不安定な環状ケトンやフェナシルクロリド、α-ヒドロキシアセトフェノンなどの不斉水素化に有用です。 詳細はカタログをダウンロードしていただくか、 お気軽にお問い合わせください。
防カビ・抗菌・消臭コーティングや超親水防汚コーティングなどをラインアップ！
『アドバンスコートシリーズ』は、防カビ・防汚・消臭・抗菌に適し、 光がなくとも活性化する自然環境放射線触媒です。 空気中の酸素と水分をもとに、触媒反応によって活性酸素を強力に発生させ、 強い酸化力で接触してきた有機物や細菌の分子結合を切断・分解。 無害な二酸化炭素や水に変化させ優れた効果を発揮し、金属、樹脂、ガラス、 陶器等にコーティングすることができます。 【特長】 ■光がなくても高い効果を発揮 ■毒性「0」なのに高い抗菌効果 ■母材を傷めず高い密着性 ■長く安定した効果を持続 ■様々なものや場所に塗布可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
担体から担持まで一貫生産！全自動・全数シリアル管理による品質保証で安心
『メタルハニカム触媒』は、メタル担体を用いた、ハニカム触媒です。 当社では、担体から担持まで一貫生産しており、全自動、全数シリアル管理 による品質保証を行っていますので、安心してご使用いただけます。 【特長】 ■担体から担持まで一貫生産 ■全自動、全数シリアル管理による品質保証 ■安心の品質でお届け ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
