イオンポリッシュ法を用いた断面加工
試料表面から試料原子が弾き飛ばされるスパッタリング現象 を利用して、試料表面を削り取る方法
IP法は、エネルギーおよび方向を揃えたイオンビームを試料に照射したときに試料表面から試料原子が弾き飛ばされるスパッタリング現象を利用して、試料表面を削り取る方法です。 CP法（Cross-section Polish）とも言われます。 イオン種は通常試料との化学反応の心配のない希ガス（MSTではAｒ）が用いられます。加工面のAES分析では遮光板成分（Ni、P）は検出下限以下でした。 ■特徴 ・広域（約500μｍ～1mm）断面加工が可能 ・機械研磨ダメージの影響がない ・表面汚染がほとんどない ・大気非暴露、冷却加工が可能
- 企業：一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
- 価格：応相談
