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私たちは、IT・ハイテク産業の発展に貢献します
株式会社ブイテックスは創立以来、各分野において、一貫して特殊バルブの開発・生産を行ってまいりました。 おかげさまでＩＴ分野、特に半導体、ＦＰＤ（液晶、有機ＥＬパネル）、薄膜ソーラーパネル、ハードディスクの製造に使用される株式会社ブイテックスの真空バルブはクリーンなバルブとしてユーザーの皆様から厚いご信頼をいただき、幅広く採用されるまでに成長いたしました。 また株式会社ブイテックスは、日本で唯一のラプチャーディスクメーカーとして多くの実績を持ち、お客様から高い評価を得ています。 これからも、より高性能な商品の開発、顧客および市場のニーズに応えられる商品アイテムの充実、国内・海外での製造・販売、 アフターサービス体制の一層の強化など産業の発展に寄与できるようにグローバルに取り組んでまいります。 【主な取扱製品】 ○超高・高真空用バルブ ○ラプチャーディスク ○原子力用パルプ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
プロセスオートメーション用電子真空バルブ。電子式真空調整弁 サイズ1.5インチ～4インチ。
高流量電子式真空調整弁は、従来のPID制御バタフライ弁よりもはるかに高速かつ高精度なソリューションを提供します。 Equilibarの2段式パイロット制御ソリューションでは、小型の電子式真空パイロットレギュレータが真空設定値信号を大型の背圧レギュレータ（BRP）に送信し、BRPの入口で1対1の直接的な関係で制御された真空状態を実現します。この目的のために、Equilibarの高分解能電子式真空パイロットレギュレータが使用されます。この電子式真空パイロットレギュレータと高精度パイロット制御背圧レギュレータの組み合わせにより、完全な電子式真空バルブパッケージが構成されます。電子式真空バルブは、従来の4-20mAアナログ入力と最新のシリアルデジタル入力の両方に対応しています。 クローズドループモードでは、プロセス真空圧力は別の真空圧力センサーによって監視され、パイロットレギュレーターへの指令信号が調整されて、プロセス圧力が目標設定値に一致するように制御されます。このPID制御は、機種によっては電子圧力レギュレーター内部で実行される場合もあれば、プロセス制御システムで設定される場合もあります。
高精度高流量真空調整弁（EVR）は、最大4インチまでの配管サイズにおいて、他に類を見ない優れた性能を発揮します。
ドーム型多孔オリフィス技術を採用して設計されており、幅広い流量範囲で精密な制御を実現します。Equilibar精密EVRは、唯一の可動部品であるフレキシブルダイヤフラムを制御機構として採用しています。このダイヤフラムはバルブ内部のオリフィスに直接密着するため、従来の動的Oリングやワイパータイプのシールを用いた真空制御バルブによく見られる「スティクション」を解消します。Equilibar設計は摩擦がなく、極めて高い分解能で真空を制御できます。動作原理の詳細については、こちらをご覧ください。 当社の高精度高流量真空バルブは、1 1/2インチから4インチまでのサイズを取り揃えており、材質は用途に応じた温度および耐薬品性に応じて、ステンレス鋼316/316L、陽極酸化アルミニウム、またはPVCからお選びいただけます。各EVRには、ノブで簡単に調整できる手動パイロット設定値レギュレーターが付属しています。EVRの自動化をご希望の場合は、電子パイロットレギュレーターをご購入いただけます。
コンパクトな真空封止用バルブ
-バルブの開閉時に振動・パーティクルの発生が少ない -ボディ分割構造により容易で迅速なメンテナンスが可能 -分解、クリーニング後の調整不要
