乾燥機器 真空乾燥機(温水循環加熱)
精度の高い温度分布。熱源に温水を採用した真空乾燥機
真空乾燥機の温度分布の精度を高めるため、外部で温度調節された温水を内部へ配管供給することで温度調節を行います。 各棚段にも配管し温水を循環させることで、ワークへの直接の熱伝導も可能です。
- 企業:株式会社島川製作所
- 価格:応相談
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精度の高い温度分布。熱源に温水を採用した真空乾燥機
真空乾燥機の温度分布の精度を高めるため、外部で温度調節された温水を内部へ配管供給することで温度調節を行います。 各棚段にも配管し温水を循環させることで、ワークへの直接の熱伝導も可能です。
5面プレートヒーターによる均一な加熱処理による高精度温度分布を実現
*熱源に電気プレートヒーター(エアパージ防爆)を採用。工場内の従来のインフラでお使いいただけます。
N2雰囲気・真空の切替が可能。 高速降温にも対応。
レアメタル、電池材料などハイテク製品素材加工用の真空乾燥機です。 N2雰囲気への切り替えが可能。温度分布精度向上のための攪拌ファン、ワーク取出し時の待ち時間を短縮する降温機能(自社独自開発)を搭載しています。
弊社従来品との比較では、同じ温度条件でほぼ2倍以上の乾燥率、乾燥時間は半分以下への短縮を実現!
「もっと効率の良い真空乾燥機は作れないのか…」答えは"高輻射"にありました! 弊社従来品との比較では、同じ温度条件でほぼ2倍以上の乾燥率、 乾燥時間は半分以下への短縮を実現。 真空環境下では、対流による加熱ができないため、加熱方法としては、伝導熱または輻射熱による加熱となります。 真空下で高輻射を実現できるということは、加熱が素早くでき、大幅なコストダウンにも繋がります。 真空乾燥機の熱源部に、弊社独自の画期的な特殊加工(特許出願中)を行うことで、真空下での輻射熱を増すことに成功し、ワークの熱吸収量が格段に上がることが確認できました。 弊社、真空乾燥機のどの機種にも対応可能、テスト機による比較検証もできます。
温調精度が向上、ラボにおすすめ!視認性の良い新型コントローラを採用
『ADP201/301』は、新型コントローラを搭載したコンパクトサイズの 角型真空乾燥器です。 ヒータが槽の外側に配置されている外熱炉方式を採用。内槽壁面より 輻射熱で槽内を温める構造で、ヒータが内部に配置されている内熱炉方式と 比較して、優れた温度分布やヒータの劣化が少ないなどの特長があります。 また、自己診断機能、過昇防止等などの安全機能を装備しています。 停電復帰後の動作(待機又は停電前の状態に復帰)を選択可能です。 【特長】 ■ヒータの劣化が少ない外熱炉方式を採用、優れた温度分布を実現 ■視認性の良い新型コントローラを採用、温度調節精度が向上 ■充実の安全機能 ■15Aコンセントで使用可能 ■アルミ製棚板で熱伝導性をアップ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。