乾燥機器 真空乾燥機(温水循環加熱)
精度の高い温度分布。熱源に温水を採用した真空乾燥機
真空乾燥機の温度分布の精度を高めるため、外部で温度調節された温水を内部へ配管供給することで温度調節を行います。 各棚段にも配管し温水を循環させることで、ワークへの直接の熱伝導も可能です。
- 企業:株式会社島川製作所
- 価格:応相談
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精度の高い温度分布。熱源に温水を採用した真空乾燥機
真空乾燥機の温度分布の精度を高めるため、外部で温度調節された温水を内部へ配管供給することで温度調節を行います。 各棚段にも配管し温水を循環させることで、ワークへの直接の熱伝導も可能です。
弊社従来品との比較では、同じ温度条件でほぼ2倍以上の乾燥率、乾燥時間は半分以下への短縮を実現!
「もっと効率の良い真空乾燥機は作れないのか…」答えは 高輻射 にありました! 弊社従来品との比較では、同じ温度条件でほぼ2倍以上の乾燥率、 乾燥時間は半分以下への短縮を実現。 真空環境下では、対流による加熱ができないため、加熱方法としては、伝導熱または輻射熱による加熱となります。 真空下で高輻射を実現できるということは、加熱が素早くでき、大幅なコストダウンにも繋がります。 真空乾燥機の熱源部に、弊社独自の画期的な特殊加工(特許出願中)を行うことで、真空下での輻射熱を増すことに成功し、ワークの熱吸収量が格段に上がることが確認できました。 弊社、真空乾燥機のどの機種にも対応可能、テスト機による比較検証もできます。
5面プレートヒーターによる均一な加熱処理による高精度温度分布を実現
*熱源に電気プレートヒーター(エアパージ防爆)を採用。工場内の従来のインフラでお使いいただけます。
カスタマイズ可能!コンパクトサイズ真空乾燥装置
カスタマイズ可能なコンパクトサイズの扱いやすい真空乾燥装置です。 プレートヒータ、ハロゲンランプ等、熱源の追加・選択が可能、研究開発用途に適した仕様を実現します。 【特徴】 ・さまざまな材料の乾燥テストに適用 ・オプションとして成分分析機能設置可能 ・ドライルーム仕様 ・価格:600万円~