硬化炉(製造) - 企業1社の製品一覧

IR硬化炉

基盤投入時に放熱を防ぐため開閉扉がついています

『IR硬化炉』は、フレキソ印刷機にて塗布された基板上の配向膜、 または絶縁膜をIRヒーターを上下に搭載し、焼成・硬化処理 冷却バッファーを行う装置です。 独立した多段炉なため、各段を自由に温度設定が出来ます。 主な用途先は半導体製造装置関連、FPD製造装置関連です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【仕様】 ■温度性能：室温〜350度(ガラス表面温度) ​■温度精度：表面温度±5度以内 ■方式：マイカヒーター ■ヒーター出力：AC200V/50Hz　3φ　10KVA ​■熱量：10.78mj ​■圧縮空気：0.5Mpa　50L/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 企業：株式会社IPC
• 価格：応相談

• 焼却炉・焼却装置