半導体製造装置用AlN部品
ダミーウェーハやターゲットなどに！フッ素系ガス耐食性に優れるAlN部品をご紹介！
古河電子では『半導体製造装置用AlN部品』を取り扱っています。 窒化アルミニウム（AlN）は、熱伝導性・熱放射性（放熱）、耐熱衝撃性、 電気絶縁性に優れ、Siウェーハにマッチした熱膨張をもつ、特性の バランスの良い材料です。 フッ素系ガス耐食性に優れるほか、Siにマッチした低熱膨張で、 温度変化によるウェーハの変形を防ぎ、また、デポ膜の剥離による パーティクル発生を低減します。 【特長】 ■熱伝導・熱放射率が大きく、均熱性が高い ■熱衝撃に強く、急熱・急冷に耐える ■Siにマッチした低熱膨張で、温度変化によるウェーハの変形を防ぐ ■デポ膜の剥離によるパーティクル発生を低減する ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：古河電子株式会社
- 価格：応相談
