粉体機器『回転式流動層乾燥装置』
大量処理に好適!湿式押出造粒した顆粒を連続的に乾燥・取り出しができる装置
『回転式流動層乾燥装置』は、湿式押出造粒した顆粒を連続的に クローズド系で乾燥・取り出しができる乾燥装置です。 湿潤顆粒条件は、粒度・粒径0.4〜0.6mm・φ0.5×3〜5mm・円柱形顆粒、 かさ密度0.4~0.6g/cm3、湿潤顆粒水分10~20%となっています。(参考数値) 【特長】 ■湿式押出造粒した顆粒を連続的にクローズド系で乾燥・取り出しができる ■大量処理に適した装置 ■乾燥装置内における滞留時間を一定にできる (乾燥条件のバリテーションが可能) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業:株式会社アーステクニカ
- 価格:応相談