ナノ粒子生成装置「レーザーアブレーションシステム」(LA)
ターゲットにパルスレーザーを照射してナノ粒子を生成させる技術です。基板への成膜、微粒子コーティング、液相での処理が可能です。
固体ターゲットにパルスレーザーを照射して数nmから数10nmのナノ粒子を生成させる技術です。減圧雰囲気中で基板への成膜、また流動化している粒子に対してのコーティングも可能です。また、任意の溶媒中でナノ粒子の分散したサスペンションを調製することも可能です。金属やセラミックス材料など無機物はもちろんのこと、医薬品、高分子などの有機化合物もレーザー波長や出力の制御により、処理可能です。
- 企業：株式会社奈良機械製作所
- 価格：応相談
