解析露光装置×リソテックジャパン株式会社 - 企業1社の製品一覧

レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000

EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置

レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。

• 企業：リソテックジャパン株式会社
• 価格：応相談

• その他プロセス制御
• 分光分析装置