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温度制御、雰囲気制御、酸素分圧制御、プログラムパターン制御が可能な酸素分圧＆雰囲気制御試験炉！
酸素分圧＆雰囲気制御試験炉「ＳｉＯＡＦ－２００Ｃ」は、タッチパネル、ネットワーク及びＰＣから温度制御、雰囲気制御、酸素分圧制御、プログラムパターン制御が可能であり、酸素分圧コントローラー（ＳｉＯＣ相当／オプション）の付加により極低濃度（10E5～10E-25Pa）の酸素分圧雰囲気までフィードバック制御できるネットワーク対応の管状型試験炉です。 【特長】 ■タッチパネル、ネットワーク及びＰＣから温度制御、雰囲気制御、 酸素分圧制御、プログラムパターン制御が可能 ■極低濃度の酸素分圧雰囲気までフィードバック制御 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい
流量・圧力・物温・排気を同期記録し、反応開始〜終了を見える化
当社では、反応挙動の見える化に適した「管状炉」を取り扱っております。 汎用管状炉では、焼成前後の分析しかできず、反応開始・終了のタイミングやガス発生挙動、 圧力・流量の変化を把握しにくい場合があります。 本設備では、お客様の目的に応じて流量計、圧力計、物温測定、サンプリングポート、 排気分析ラインなどを組み合わせ、反応中のデータを同期ロギングできる構成で製作可能です。 【特長】 ■ 流量・圧力・物温・排気データを同時記録 ■ 反応開始、終了、ガス発生のタイミングを把握 ■ サンプリングポート、バイパスライン等を設計可能 ■ 真空、不活性ガス、H2など各種雰囲気に対応 ■ 排ガス評価や条件検討用の小スケール試験に好適 ※詳しくは、資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
高濃度から極低濃度までの酸素分圧を制御可能！
『SiOAF-200C』は、タッチパネル、ネットワーク及びパソコンから 温度制御、雰囲気制御、酸素分圧制御、プログラムパターンが可能な 酸素分圧&雰囲気制御試験炉です。 簡便なGUIによりタッチパネル、ネットワークPCから容易に温度、雰囲気、 酸素分圧等のプログラムパターン運転が可能です。 最大3種までの雰囲気ガスを接続し、任意のタイムプログラムにて雰囲気の 調節ができます。 【特長】 ■プログラムパターン制御が可能 ■フィードバック制御が可能 ■任意のタイムプログラムにて雰囲気調節が可能 ■均熱長120mm／1ゾーン制御炉から均熱長250mm／3ゾーン制御炉まで 対応 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
負圧運転・耐食設計・スクラバー連動で、Cl2/HCl処理を小型炉で安全に検討
Cl2、HClなどの腐食性ガスを用いた処理では、ガス漏洩、配管・炉材の腐食、未反応ガスの排気、除害処理など、安全面の設計が重要になります。 当社では、研究開発用の「小型塩素炉」を取り扱っております。 本設備は、塩素・塩化水素を安全かつ制御性高く扱える小型炉であり、腐食性ガスを用いた材料試験、金属不純物除去、選択塩素化、治具洗浄などの条件検討に使用できます。 耐食材料を使用した炉体・配管構成、スクラバー連動、腐食ガスモニタ、非常遮断、インターロックなどを組み合わせることで、研究用途でもCl2/HCl処理を安全に実施しやすい構成を検討できます。 【特長】 ■ Cl2/HClなど腐食性ガス処理に対応 ■ 常時負圧運転により炉外へのガス漏洩リスクを低減 ■ 耐食材料を使用した炉体・配管構成 ■ スクラバー、腐食ガスモニタ、非常遮断との連動が可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
