高周波超音波洗浄機 ハイメガソニック
半導体や液晶などに要求される45nm以下の超微粒子除去
CPU内臓により出力の集中コントロール 作動状態のフィードッバックが可能な、高周波超音波洗浄機
- Company:株式会社カイジョー ODM事業部
- Price:応相談
1~6 item / All 6 items
半導体や液晶などに要求される45nm以下の超微粒子除去
CPU内臓により出力の集中コントロール 作動状態のフィードッバックが可能な、高周波超音波洗浄機
超音波をのせた洗浄液をノズル先端より噴射
カイジョー社が取扱う スポットシャワー超音波洗浄機のご紹介です
フェニックス26kHz/38kHz/FMを使用した洗浄装置
金属機械加工品に付着した油汚れなどの洗浄には、26kHz又は38kHz帯域のキャビテーションを使用した超音波洗浄が用いられています。一般的には超音波アルカリ洗浄→超音波リンス→乾燥の工程が用いられてます。 弊社のフェニックスⅡ26kHzやレジェンド38KHz/FMは高性能の定出力回路を搭載し、常に安定した洗浄力を発揮しますので、多くの洗浄装置メーカーに採用され御好評をいただいております。
この洗浄力、しかも低価格
高洗浄力で定評のフェニックスにスリーが新登場 1.イニシャライズ機能 洗浄液や液温/液深などでの様々な条件に、簡単な操作で最適な動作点に自動設定。 振動子を交換した場合でも最適な条件で使用できます。 2.「動作」の3重チェック機能 装置搭載時に必要な3つのチェック機能を標準搭載 READY(待機)、6種類のアラームチェック、GO(発振)のインターロック停止端子を搭載。 3.電源電圧変更機能 操作パネルからの簡単な操作で対応の電源電圧の変更ができます。 4.出力コントロール 超音波出力は10~100%の10段階設定。 外部コントロールも可能です。 5.多様なモード設定 3種類の発振モードと3種類の動作モード及び3種類の設定モードを搭載。 6.電波法型式指定対応のため、面倒な総合通信局への届出の必要がありません。
LCD・ウェーハ基盤の枚葉洗浄に最適
特殊反射方式で構造がシンプル・洗浄効率が高い超音波洗浄機
太陽電池、FPD基板、HD基板を精密洗浄
・430kHzと950kHzに対応した新世代洗浄機。 ・QUAVAの高機能を継承し、枚葉洗浄に最適。 ・超音波をのせた洗浄液をチューブ型ノズルより噴射。 ・自由度の高いチューブ形状ノズルで均一な洗浄が可能。 ・側面、裏面照射に対応。 ●チューブは先端照射方式、シャワー照射方式、側面照射方式の3タイプから選択可能。 ●チューブ式ノズルのため振動子設置スペースを限定しない装置搭載が容易。