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非接触でクリーンな加熱が可能！近赤外線を放射するハロゲンランプヒーター
『QIRハロゲンランプヒーター』は、非接触でクリーンな加熱が可能な、 近赤外線を放射するハロゲンランプヒーターです。 立ち上がり立ち下がり時間が短く、出力コントロールが容易です。 寿命終止までの出力低下が数%とわずかで、初期の出力設定からの ずれが少なくなっています。 各種形状、真空対応、反射膜付き等、各種特注に対応いたします。 【特長】 ■立ち上がり立ち下がり時間が短く出力コントロールが容易 ■初期の出力設定からのずれが少ない ■電力密度が高く、小型化が容易 ■各種形状、真空対応、反射膜付き等、各種特注対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を照射し、高温・急速加熱が出来る近赤外線ヒーターユニットです
近赤外線ヒーター ヒートビームシリーズは、特殊高効率ハロゲンランプから照射される近赤外線を利用し、ライン状やスポット状または、面状の熱源が得られるヒーターユニットです。 反射鏡は特殊金メッキを施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱と2mm～3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接触でクリーンな加熱ができ、真空中や不活性ガス中での加熱やガラス越しでの加熱が可能です。 温度調節には専用コントローラを使用することにより、ヒーター出力を一定に保ち、立ち上がり時間が速く安定した制御が行えます。 【特長】 ・エリア加熱最大1200℃ ・立ち上がり立ち下がり時間が短く、温度コントロールが容易 ・非接触でクリーンな加熱 ・電力密度が高く、小型化が容易 ・反射鏡長さは40〜2000mmまで製作可能
高い電力密度、高効率反射鏡により高速加熱が可能な近赤外線ヒーターです。ライン速度アップ、加熱時間短縮といった課題を解決致します。
近赤外線ヒーター ヒートビームシリーズは、特殊高効率ハロゲンランプから照射される近赤外線を利用し、ライン状やスポット状または、面状に集光可能なヒーターユニットです。 反射鏡は特殊金メッキを施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用し、2mm～3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接触でクリーンな加熱ができ、真空中や不活性ガス中での加熱やガラス越しでの加熱が可能です。 温度調節には専用コントローラを使用することにより、1～2秒と立ち上がり時間が速く安定した制御が行えます。 【特長】 ・加熱温度範囲 常温～1200℃ ・立ち上がり立ち下がり時間が短く、温度コントロールが容易 ・非接触でクリーンな加熱 ・電力密度が高く、高速加熱が可能 ・長尺ヒーターは、2000mmクラスまで製作可能 【使用例】 ・フィルムの加熱、延伸 ・エンボス加工前の加熱 ・ラベルはがし ・シール貼り ・コーティングの加熱乾燥 ・プリプレグ切断前予熱 ・ラミネート前の加熱
ハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を線状に照射し、高温・急速加熱が出来る近赤外線ヒーターユニットです
近赤外線ヒーター 線集光タイプＨＹＬシリーズ（水冷式）は、特殊高効率ハロゲンランプから照射される近赤外線を利用し、ライン状の熱源が得られるヒーターユニットです。 反射鏡は特殊金メッキを施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱と2mm～3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接触でクリーンな加熱ができ、真空中や不活性ガス中での加熱やガラス越しでの加熱が可能です。 温度調節には専用コントローラを使用することにより、ヒーター出力を一定に保ち、立ち上がり時間が速く安定した制御が行えます。 【特長】 ・エリア加熱最大1200℃ ・立ち上がり立ち下がり時間が短く、温度コントロールが容易 ・非接触でクリーンな加熱 ・電力密度が高く、小型化が容易 ・反射鏡長さは40〜2000mmまで製作可能 【使用例】 ・フィルムの加熱、延伸 ・エンボス加工前の加熱 ・ラベルはがし ・シール貼り ・コーティングの加熱乾燥 ・プリプレグ切断前予熱 ・ラミネート前の加熱
