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研究開発・実験用 高温管状炉 最高温度1600℃ 標準横型、オプションで縦型 大口径炉心管（75~100mm）対応
＜説明＞ ■ チューブ(炉心管）の設計は標準は横置き(水平型）です。 ■ オプションにて、縦型スタンド式、縦横兼用のユニバーサルスタンドがございます。 ■ ユニバーサルススタンドでは、垂直または水平に、または傾斜の位置で動作するように配置することができます。 ■ 傾斜角度の設定や、安定した温度環境を実現することで 温度環境が安定しているため、様々な熱処理プロセスの再現に適しています。 ■ 追加のアクセサリとして、制御雰囲気と真空アプリケーションに適合する気密ガスタイトシールを採用すると、様々な材料試験および不活性熱処理向けに設計されます。 詳しくは、カタログをダウンロードいただくか、お問い合わせください。
炉内温度の均一性に優れた発熱体埋め込みセラミックマッフル炉
このマッフル炉は刺激的な物質がお客さまの使用範囲にある時、特にお薦めできる実験炉です。炉内のセラミックマッフルの4面に発熱体が埋め込まれています。そのためマッフル炉は炉内温度均一性に優れ、刺激的な雰囲気から発熱体を保護する特徴を合わせもちます。それらと並んで、滑らかで殆ど毛羽立たないマッフル（ファイバー断熱の炉扉）は、各種の灰化プロセスにおいて重要な品質特性を示します。
最高温度 1550℃～1800℃ 縦型開閉式ドアで操作が容易なカンタルスーパー発熱体式電気炉です。
二珪化モリブデン カンタルスーパー発熱体により、急速加熱が可能です。 低熱容量断熱材は、効率的な断熱だけでなく、迅速な熱上昇率を達成します。 材料試験、サーマルエージング試験、温度衝撃試験、例えば-アニーリング（焼なまし）、焼入れ、焼き戻し、セラミックサンプルの焼結・焼成等教育機関、実験室、医療、及び工業に最適です。
4面加熱可能な、スイング式ドア付きの汎用マッフル炉です。
常用温度1000°C以下の連続運転に適します。 実験室での一般的な加熱用途及び灰化プロセスに適します。 ４面加熱式により速い温度上昇速度と優れた温度均一性を実現。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます(800°Cで29~30°C)。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 本体が軽量な為、設置場所の移動とメンテナンスが容易です。 半導体制御整流回路（SSR）とPID制御により、低ノイズ及び正確な温度制御（±1℃）を実現。 オプションの流量計でガス環境で利用可能
セラミックファイバー製の炉とシリコンカーバイト製の発熱体を備えた高精度な高温用電気炉です。
常用温度1350°C以下での24時間連続運転が可能。 金属サンプルのテストに最適。 加熱プログラムを9種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに5セグメント）内蔵。 二面加熱式で高い温度上昇速度かつ均熱性（±４％）を維持。 交換が容易なシリコンカーバイト製の発熱体採用。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 半導体制御整流回路（SCR）とプログラム制御により、正確な温度制御（±1℃）を実現。 低騒音設計。 過熱警報機能標準装備。 オプションの流量計でガス環境で利用可能。
セラミックファイバー製の炉とMoSi2の発熱体を備えた高精度な高温用電気炉です。
常用温度1650°C以下での24時間連続運転が可能。 金属サンプルのテスト及び焼結に最適。 加熱プログラムを9種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに5セグメント）内蔵。 二面加熱式で高い温度上昇速度かつ均熱性（±４％）を維持。 交換が容易なMoSi2の発熱体採用。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 半導体制御整流回路（SCR）とプログラム制御により、正確な温度制御（±1℃）を実現。 低騒音設計。 過熱警報機能標準装備。 オプションの流量計でガス環境で利用可能。
セラミックファイバー製の炉とMoSi2の発熱体を備えた高精度な高温用電気炉です。
常用温度1550°C以下での24時間連続運転が可能。 金属サンプルのテスト及び焼結に最適。 加熱プログラムを9種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに5セグメント）内蔵。 二面加熱式で高い温度上昇速度かつ均熱性（±４％）を維持。 交換が容易なMoSi2の発熱体採用。 ガス放出機能標準装備。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます。 炉体に発がん性がないと分類されているセラミックファイバーを使用。 半導体制御整流回路（SCR）とプログラム制御により、正確な温度制御（±1℃）を実現。 低騒音設計。 過熱警報機能標準装備。 オプションの流量計でガス環境で利用可能。
管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな電気炉です
・常用温度1350°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバー設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真空の引き、不活性ガスの流し込みと焼結) ・オプションのマスフローコントローラにより、不活性ガスのプリセット(98)ができ、より正確で応答性が高い安定したガス管理が可能。 ・オプションの背圧弁により、チャンバー内の正圧を維持できます。 ・マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。
管状炉の試料サイズ制限及びマッフル炉の仕切り入れの手間をなくした新たな電気炉です
・常用温度1000°C以下の連続運転に適します。 ・無酸素環境の為の完璧な雰囲気制御。 ・長方形チャンバ設計で、管状炉と比較して、幅広い試料サイズに対応。 ・真空の有無にかかわらず、硬化、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、焼結をサポートします。 ・真空、真空状態の解除、ガス入力およびガス出力は個別の4ポートで構成されています。 ・複数の大気環境を作り出せます(空気中での燃焼、空気のパージと真空の引き、不活性ガスの流し込みと焼結) ・オプションのマスフローコントローラにより、不活性ガスのプリセット(98)ができ、より正確で応答性が高い安定したガス管理が可能。 ・オプションの背圧弁により、チャンバー内の正圧を維持できます。 ・マスフローコントローラ、背圧弁、デジタル真空メーター及び真空ポンプのフル構成で完全且つ精密な実験を可能とします。
