【技術記事】高歩留まり最適化
高歩留まり最適化はより製造しやすい設計を実現する画期的なテクノロジーです。
高歩留まり最適化はより製造しやすい設計を実現する画期的なテクノロジーです。公称設計の感度を下げる最適化を可能とする最適化機能です。Ken Moore 氏によるこの新しい最適化手法[1]は、製造およびアライメントエラーに対する感度を低減しようと試みます。 光学設計者は、性能仕様を満たすとともに、可能な限り製造不良を抑えた製品を開発する必要があります。以前から、コンピュータによる最適化を用いた光学設計では、シミュレートする光学系の光学的性能を表すために評価関数数値を使用してきました。そうした従来の設計手法では、まず設計の公称性能を最大化したうえで、後続する別の工程において、公称パラメータに製造公差を加えます。これによって、製造後の光学系でも仕様どおりの性能が実現されます。しかし、この手法による設計は、製造誤差と位置合わせ誤差に対して極めて敏感である場合が多く、再現性よく光学製品を製造することは困難です。 ※記事の続きは関連リンクでご覧ください。
- 企業：アンシス・ジャパン株式会社
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