【半導体成膜向け】グラファイトヒーター
半導体製造における成膜プロセスを支えるグラファイトヒーター
半導体業界の成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成のために、精密な温度管理が不可欠です。特に、高温環境下での均一な温度分布と、高い耐久性が求められます。不適切な温度管理は、薄膜の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のグラファイト加工事例である高温炉・真空炉用ヒーター(エレメント)は、電気エネルギーを熱に変換し、炉内の温度を上昇させることで、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・CVD(化学気相成長) ・PVD(物理蒸着) ・ALD(原子層堆積) 【導入の効果】 ・均一な温度分布による高品質な成膜 ・高い耐久性による安定した稼働 ・オーダーメイド対応による最適なサイズと形状
- 企業:東京炭素工業株式会社
- 価格:応相談