カフマン グリッドレス(エンドホール型) イオンソース
カフマングリッドレスイオンソース一式
The compact low profi le eH series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers both R&D and high yield production requirements. Large ion beam currents meet critical arrival ratios for high deposition rate processes. Low energy ions minimize ion bombardment damage to surfaces and interfaces. The broad divergent beam improves throughput by uniformly covering a wide deposition zone. 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。
- 企業：アールエムテック株式会社
- 価格：応相談
