1～7 件を表示 ／ 全 7 件
被加熱物の形状に合わせ、様々な形状が製作可能。 1枚からでも製作致します！
・ヒーター厚はわずか1.5mmなので、熱応答性に優れています。 ※シートを積層する事により厚みの調整も可能です。 ・シリコーンラバーの柔軟性をいかし、被加熱物のどんな形状にも完全に フィット可能です。 ・低温度から200℃まで使用可能。 ・低電圧から100V・200V・240Vなど、各種電圧設計に対応可能。 ・シリコーンラバーヒーターの材料はUL規格ファイルNo.E54153を使用。 ・標準タイプはUL-94HB対応品ですが、より難燃グレードの高い UL-94-V0対応品もご用意しております。
【UL規格に準拠】配管など狭い場所でも使用可。自由形状加工・カスタマイズOK。
『シリコンラバーヒーター』は、シリコンゴムにガラス繊維で 強度を持たせ、シート状の間に発熱線を挟んだ加熱器具。 自由な形状に加工し、プレートや配管、コーヒーウォーマーなど さまざまなものに取付け可能。狭い空間でも加熱ができます。 ラバー素材がUL規格に認証済みなことに加え、さらにヒーター全体でも UL規格準拠試験に合格。安全な使用が可能です。 【特長】 ■円形、穴あきなど、被加熱物に合わせた自由な形状加工が可能 ■最高280℃に耐える「高耐熱タイプ」をラインアップ ■１個からでも短納期に対応 ■特注での設計・製作にも対応 ※詳しくは資料をご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
高温用仕様の材料タイプを使用！連続使用可能温度260℃の製品をご提案した事例
お客様のお悩み・ご要望に応じて提案した事例をご紹介いたします。 京都府のK社様のご要望は、“自社設備にシリコンラバーヒーターを採用したいのだが、 使用温度が250℃程度で、一般的にシリコンの耐熱性は200℃程度と聞いたことはあるが対応は可能か？”といったものでした。 そこで、当社在庫の高温用シリコン材料(連続使用可能温度260℃仕様)の「シリコンラバーヒーター」をご提案。 当社では高温域での使用に耐えられるシリコン材料でカスタム品の製作が可能となります。 【事例概要】 ■要望 ・自社設備にシリコンラバーヒーターを採用したいが、使用温度が250℃程度 ・一般的にシリコンの耐熱性は200℃程度と聞いたことはあるが対応は可能か ■提案 当社在庫の高温用シリコン材料(連続使用可能温度260℃仕様)のシリコンラバーヒーターをご提案 【ご提案製品】 ■カスタム品 HTタイプ（耐熱260℃仕様） 高温用仕様の材料タイプ(非UL認定品) を使用したシリコンラバーヒーターとなります。 詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ご指定のヒーターサイズ・定格にて製作！厳しい管理の下で製造していくノウハウと経験がございます
お客様のお悩み・ご要望に応じて提案した事例をご紹介いたします。 東京都S社様のご要望は、“半導体製造装置の構成部品を加熱したい。 業界柄、品質や管理について高水準の製品が求められているが対応可能か？”というものでした。 当社は長年、半導体製造装置向けにシリコンラバーヒーターを製造してまいりました。 高品質なヒーターを厳しい管理の下で製造していくノウハウと経験がございます。 【事例概要】 ■要望 ・半導体製造装置の構成部品を加熱したい ・品質や管理について高水準の製品が求められている ■結果 ・長年、半導体製造装置向けにシリコンラバーヒーターを製造している ・高品質なヒーターを厳しい管理の下で製造していくノウハウと経験がある 【ご提案製品】 ■SRタイプ（カスタム仕様） 幣社標準仕様の材料タイプ(UL認定品)を使用したシリコンラバーヒーターとなります。 ご指定のヒーターサイズ・定格にて製作いたします。 ※連続使用温度200℃ 最高使用温度230℃ 詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ごく小さな曲げ部分にも十分に対応！機械的強度に優れ、柔軟性にも富んでいます！
当社が取り扱う『シリコーンラバーヒーター（ワイヤリングタイプ）』を ご紹介します。 優れた機械的強度と柔軟性が特長。承認規格は、ULR File No.E52951と なっております。 ごく小さな曲げ部分にも十分に対応します。 【特長】 ■ワイヤリングの発熱体を使用 ■機械的強度に優れ、柔軟性にも富んでいる ■ごく小さな曲げ部分にも十分に対応 ※バネ・ホック止めは形状例のひとつです。通常はついておりません。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
均熱を最適化し、半導体製造の品質向上に貢献します。
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、温度管理が非常に重要です。特に、ウェーハや基板の均熱は、製造プロセスにおける歩留まりや製品性能に大きく影響します。温度ムラは、製品の品質低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社のシリコンラバーヒーターは、均熱性に優れ、精密な温度管理を実現することで、半導体製造における課題解決に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハの均熱 ・基板の均熱 ・半導体製造装置の温度管理 【導入の効果】 ・温度分布の均一化による品質向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上
柔軟性に優れ、実験の温度管理をサポート。1枚から製作可能。
研究開発の現場では、実験の再現性と精度の向上が常に求められます。特に、温度管理は実験結果に大きな影響を与えるため、正確で安定した加熱が不可欠です。従来の加熱方法では、温度分布の偏りや、加熱対象の形状への適合性の問題がありました。シリコンラバーヒーターは、柔軟性があり、被加熱物の形状にフィットするため、均一な加熱を実現し、実験の精度向上に貢献します。 【活用シーン】 ・温度管理が必要な実験 ・試作品の加熱 ・各種分析装置への組み込み 【導入の効果】 ・均一な温度分布の実現 ・実験の再現性向上 ・多様な形状への対応 ・短納期での納品
