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優れるコストパフォーマンス！意匠部分の歪みがなく印刷精度が抜群に良くなります
『ダブルスクリーン』は、テトロンメッシュとステンレスメッシュの 長所を合わせもつスクリーンマスクです。 中心部分にテトロンメッシュに比べ伸縮のないステンレスメッシュを 使用し、印刷時にかかる応力は周囲のテトロンメッシュ部分が吸収。 そのため、意匠部分の歪みがなく印刷精度が抜群に良くなり、 高精度パターン、微細パターン、大サイズパターン等の印刷に好適です。 【特長】 ■意匠部分の歪みがなく印刷精度が抜群に良くなる ■高精度パターン、微細パターン、大サイズパターン等の印刷に好適 ■主要部分だけに高価なステンレスメッシュを使用 ■コストパフォーマンスが優れる ■高メッシュやバイアス張り時に有効 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
低メッシュのものから高メッシュまで多種類ご用意！サン工芸のスクリーンマスクをご紹介
当社が取り扱う、スクリーンマスク『スタンダードスクリーン』をご紹介します。 スクリーンは低メッシュから高メッシュのものまで多種類ご用意。 乳剤も意匠に適したものを使用します。 また、スクリーン印刷時に生ずる歪みを独自の研究データにもとづき補正。 乳剤開発及び機械開発、製造技術の研究を推し進めるとともに、 皆様の高度な要望にお応えしていきます。 【特長】 ■低メッシュのものから高メッシュまで多種類ご用意 ■乳剤も意匠に適したものを使用 ■スクリーン印刷時に生ずる歪みを独自の研究データにもとづき補正 ■紗張り、コーティングから検査まで確実でスピーディな製版を提供 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
連続印刷性の向上に！CAD設計からマスク製造までの一貫生産体制で、印刷性向上を実現。
当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」をラインアップしています。 【撥水・撥油加工について】 ペーストの吐出性をコントロールし、印刷ニジミ防止に有効です。 連続印刷性の向上が期待できます。 ※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
連続印刷時の膜厚変動防止に！CAD設計からマスク製造までの一貫生産体制で、印刷性向上を実現。
当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」をラインアップしています。 【耐水・耐溶剤加工について】 ペーストや洗浄剤に含まれる溶剤に対し、乳剤の膨潤を抑制します。 連続印刷時の膜厚変動防止に対して有効です。 ※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ご用途に合わせた好適な乳剤タイプをご提案！オプションも充実しています。
当社の半導体関連マスク部門は、CAD設計からマスク製造までを一貫生産体制で行います。 スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使して高品質、大量生産、低コスト生産が可能です。 対応スピードと幅広い品ぞろえの両面の充実を実現いたします。 当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」や、「T3マスク」をラインアップしています。 【仕様】 ■枠サイズ ・最大サイズ：□1 000mm ■メッシュ種 ・ポリエステル/ステンレス ■標準メッシュカウント ・ポリエステル：120～305（本/インチ） ・ステンレス：165～500（本/インチ） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
インダクタ内部電極などの高アスペクト比印刷を実現。ペーストの抜け性改善
『High Aspect Ratio』は、インダクタ内部電極などの 高アスペクト比印刷を実現するスクリーンマスクです。 乳剤厚15μmで、線幅15μmのパターニングも可能です。 乳剤壁のスムース化により、ペーストの抜け性を改善しました。 【印刷例】 ■製版仕樣：SS500-13-C22 ・乳剤厚：15μm ・ペースト：塗布厚約15μm、線幅約15μm ■製版仕様：WO430-13-C21 ・乳剤厚：30μm ・ペースト：塗布厚約30μm、線幅約30μm ■製版仕様：SS230-25-55 ・乳剤厚：155μm ・塗布厚約：200μm、線幅約190μm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
