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連続印刷性の向上に！CAD設計からマスク製造までの一貫生産体制で、印刷性向上を実現。
当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」をラインアップしています。 【撥水・撥油加工について】 ペーストの吐出性をコントロールし、印刷ニジミ防止に有効です。 連続印刷性の向上が期待できます。 ※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
連続印刷時の膜厚変動防止に！CAD設計からマスク製造までの一貫生産体制で、印刷性向上を実現。
当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」をラインアップしています。 【耐水・耐溶剤加工について】 ペーストや洗浄剤に含まれる溶剤に対し、乳剤の膨潤を抑制します。 連続印刷時の膜厚変動防止に対して有効です。 ※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ご用途に合わせた好適な乳剤タイプをご提案！オプションも充実しています。
当社の半導体関連マスク部門は、CAD設計からマスク製造までを一貫生産体制で行います。 スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使して高品質、大量生産、低コスト生産が可能です。 対応スピードと幅広い品ぞろえの両面の充実を実現いたします。 当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」や、「T3マスク」をラインアップしています。 【仕様】 ■枠サイズ ・最大サイズ：□1 000mm ■メッシュ種 ・ポリエステル/ステンレス ■標準メッシュカウント ・ポリエステル：120～305（本/インチ） ・ステンレス：165～500（本/インチ） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
