【蒸着技術詳細】蒸着のしくみ
分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術！真空蒸着について解説！
蒸着のしくみについてご紹介いたします。 「真空蒸着」とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで 加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。 河合光学株式会社は、真空蒸着技術で独自の研究開発を進めてきました。 お客様の要求に対し的確に対応するため、経営者及び従業員一同が一体となり 情報提供し合いながら、品質の安定した安全性の高い製品づくりに 取り組んでいます。 当社のホームページでは、“スパッタのしくみ”や“光学膜のしくみ”なども 解説しています。詳しくは下記の関連リンクよりご覧ください。 【真空蒸着概要】 ■1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで加熱し蒸発させる ■発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：河合光学株式会社
- 価格：応相談
