ナノパターン露光装置『PhableR 100』
回折限界を超えた解像度を実現！低コストで周期構造を作製できる露光システム
『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの 露光システムです。 フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。 独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。 サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン 作製が行えます。 【特長】 ■300nmピッチ以下の高解像度300nmピッチ以下の高解像度 ■DUV光源選択で150nmピッチを実現 ■全面露光 ■ノンコンタクト：マスクをダメージやコンタミネーションから保護 ■事実上無制限の深さ方向フォーカス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社協同インターナショナル
- 価格：応相談
